A. 甲酸銅溶解
(1)研體、 加快反應速率,防止NaHCO3分解 (2)2Cu2+ + 4HCO3—= Cu2(OH)2CO3 +3CO2↑+H2ONaHCO3容易分解、過量NaHCO3可以維持鹼性 (3)過濾 (4)取少量最後一次洗滌液與試管中,加入BaCL2溶液,若無明顯現象,說明洗滌干凈(5)減少甲酸銅的損失 分 析: (1)研磨時應該將固體放在研體進行研磨;制備 Cu2(OH)2CO3時需要用到70℃~80℃的熱水,適當提高溫度可以加快反應速率,但溫度不能太高,NaHCO3容易分解還要防止NaHCO3分解。(2)根據題中的信息小蘇打和膽礬是反應物,有Cu2(OH)2CO3和CO2生成,則反應的離子方程式為:2Cu2+ + 4HCO3—=Cu2(OH)2CO3 +3CO2↑+H2O;NaHCO3要過量因為NaHCO3易分解,會有損失,反應要在鹼性溶液中進行,過量NaHCO3可以維持鹼性。(3)操作a是分離晶體和溶液,操作是過濾。(4)根據反應元素守恆看出Cu2(OH)2CO3沉澱上有Na2SO4雜質,有證明沉澱洗滌干凈可以檢驗洗滌液中是否含有SO42- 即可,實驗方法是:取少量最後一次洗滌液與試管中,加入BaCl2溶液,若無明顯現象,說明洗滌干凈。(5)甲酸銅在乙醇中溶解度比在水中要小,實驗中用無水乙醇洗滌可以減少甲酸銅的損失。 考點: 化工流程題的基本解題方法、離子方程式的書寫、物質分離方法。 考點 分析: 考點1:物質的分離、除雜和提純 考點2:物質的檢驗和鑒別 試題屬性 題型: 難度: 考核: 年級
B. 證明鹼式碳酸銅沉澱已經洗滌充分的實驗操作
1、
反應方程式:2CuSO4●5H2O+4NaHCO3 = Cu2(OH)2CO3↓+2Na2SO4+6H2O+3CO2↑
在完全反應的情況下,產物中的雜質只有Na2SO4,因此通過檢驗硫酸根來判斷沉澱是否已經洗滌干凈也是根據這個來制定的。
即便假設沒有充分反應
①碳酸氫根的問題:除了Ba(NO3)2還有HNO3呢,如果存在碳酸氫根會有氣體產生
②銅離子的問題:銅離子有顏色
所以「無明顯現象」也可以說明沒有這兩種雜質離子
2、
在這里可以用鹽酸酸化的氯化鋇,因為沒有Ag+的干擾。
用硝酸酸化的Ba(NO3)2是最穩妥的辦法,除了有亞硫酸根干擾以外其他情況基本萬能。
C. 制備甲酸銅為什麼不用氧化銅為原料
因為氧化銅具有氧化性,甲酸銅遇水易水解而具有還原性,如果用氧化銅作原料,可能會與產生的甲酸銅反應而制備不到甲酸銅。
(3)甲酸銅的制備實驗裝置擴展閱讀:
氧化銅用途:
1、化學方面:作氧化劑;氣體分析中測定碳;作為有機反應催化劑,製造人造絲和其它銅化合物。
2、工業方面:
用作玻璃、搪瓷、陶瓷工業的著色劑,油漆的防皺劑,光學玻璃的磨光劑。
用於人造絲製造工業及油脂的脫硫劑。
用作其他銅鹽製造的原料,也是制人造寶石的原料。
在磁性材料生產中用作鎳鋅鐵氧體及熱敏元件的原料。
3、其他:製造煙火、觸媒、及電鍍行業。
D. 甲酸(HCOOH)是一種有刺激臭味的無色液體,有很強的腐蝕性。熔點8.4℃,沸點100.7℃,能與水、乙醇互溶
①![]() ②防止水槽中的水因倒吸流入蒸餾燒瓶中 ③研細並混合均勻 ④出現黑色固體 ⑤防止甲酸銅晶體析出 ⑥洗去晶體表面的水和其它雜質 |
E. 為什麼制備甲酸銅要逐滴滴甲酸 若甲酸過量生成了什麼
在某些情況下甲酸會分解成CO和H2O, 所以要格外小心:
HCOOH —〉CO + H2O
F. 制備甲酸銅時,為什麼不用氧化銅為原料,而用鹼式碳酸銅為原料
鹼式碳酸銅鹼性更強更易與甲酸反應,且來源廣,價更低
G. 為什麼要將五水合硫酸銅轉化為鹼式碳酸銅制備甲酸銅
鹼式碳酸銅鹼性更強,更易與甲酸反應。並且為粉末,反應更充分。
孔雀綠色細小無定型粉末。不溶於水和醇。溶於酸、氨水及氰化鉀溶液。
H. 制備甲酸銅晶體,沒有抽濾的裝置,可以用什麼簡單的方法來代替
可以簡單過濾即可。
I. 實驗室制備甲酸銅晶體[Cu(HCOO)24H2O]的流程如下:回答下列問題:(1)生成鹼式碳酸銅[Cu2(OH)2CO3]
(1)硫酸銅與碳酸氫鈉反應生成鹼式碳酸銅、二氧化碳和水,離子方程式為:2Cu2++4HCO3-=Cu2(OH)2CO3↓+3CO2↑+H2O,故答案為:2Cu2++4HCO3-=Cu2(OH)2CO3↓+3CO2↑+H2O;
(2)鹼式碳酸銅不溶於水,可運用過濾法將它分離出來,過濾使用的玻璃儀器有玻璃棒、漏斗、燒杯,故答案為:過濾;玻璃棒、漏斗、燒杯;
(3)鹼式碳酸銅不溶於水,硫酸銅溶於水溶液呈藍色,所以只要將洗滌後的樣品加入的水中溶液不呈藍色說明洗滌充分;甲酸銅的溶解度隨溫度的升高而變大,如果冷卻,會有晶體析出,降低產率,因此需趁熱過濾,
故答案為:將少量的鹼式碳酸銅固體加水溶解若溶液不變為藍色證明洗滌充分;防止甲酸銅晶體析出;
(4)甲酸銅易溶於水,不能用蒸餾水洗滌,但需用乙醇進行洗滌,洗去晶體表面的液體雜質,故答案為:洗去晶體表面的水和其它雜質.