『壹』 如何提高测量装置的抗干扰性
主要还是抄两个方面吧：第一，就是设计选型的角度。从设计开始，就要注重测量装置的抗干扰性要达到一个什么样的水平，并要据此寻找专业人士的帮助。
第二，就是选用外接器件进行弥补。可以选用电源滤波器、电抗器、磁环、共模扼流圈、零相电抗器等等，这些都将对提高设备的抗干扰能力提供帮助。
『贰』 变电站干扰来源和窜入微机弱电 变电站干扰信号模式 变电站抗干扰措施 变电站综合自动化系统常用的检测方法
变电站的干扰来源于一些瞬间磁场！GB749-2002规定了测量高压架空送电线、变电站产生的无线电干扰的方法。适用于电压等级为500kV及以下正常运行的高压架空送电线、变电站、频率范围为0.15-30MHz的无线电干扰测量。考试就到
测试仪器必须使用符合GB/T6113.1的要求，持有有效计量检定证书的仪表;使用准峰值检波器;使用具有电屏蔽的环状天线或柱状天线。使用记录器时，必须保证不影响测试仪的性能及测量准确度。
每次测量前，按仪器使用要求，对仪器进行校准。优先采用环状天线。
参考测量频率为MHz，也可用1MHz。为了避免在单一频率下测量时因线路可能出现驻波而带来的误差影响，应在干扰频带内对各个频率进行测量并画出相应的曲线，测量可在下列频率或其附近频率进行：0.15MHz、0.25MHz、0.50MHz、1.0MHz、1.5MHz、3.0MHz、6.0MHz、10MHz.15MHz、30MHz。
测量地点选在地势较平坦，远离建筑物和树木，没有其他电力线和通信、广播线的地方，背景场强至少比来自被测对象的无线电干扰场强低6dB。背景场强的测量，可以在线路停电时进行，或在距线路400m以外进行。
对于输电线路，测点选在距边相导线投影20m处。
对于变电站，测量点应选在最高电压等级电气设备区外侧，避开进出线，不小于三点;距最近带电构架投影20m处;围墙外20m处。
在特定的时间、地点和气象条件下，仪表读数是稳定的，测量值为稳定时的仪表读数;若仪表读数是波动的，使用记录器记录或每半分钟测量一次，测量值取10min读数的平均值。对使用不同天线的测量读数，应分别记录与处理。考试就到
(1)线路的测量数据。在给定的气象条件下，每次的测量数据，应由沿线近似等分的三个地点的测量数据组成。
(2)变电站的测量数据。在给定的气象条件下，每次测量由各测量点测得数据作出频谱曲线。
测量次数不得少于15次。测量次数应与该地区每一种气象条件出现的频度成正比
『叁』 什么是干扰，干扰来源，抗干扰措施
1、 主要干扰源
（1）静电感应
静电感应是由于两条支电路或元件之间存在着寄生电容，使一条支路上的电荷通过寄生电容传送到另一条支路上去，因此又称电容性耦合。
（2）电磁感应
当两个电路之间有互感存在时，一个电路中电流的变化就会通过磁场耦合到另一个电路，这一现象称为电磁感应。例如变压器及线圈的漏磁、通电平行导线等。
（3）漏电流感应
由于电子线路内部的元件支架、接线柱、印刷电路板、电容内部介质或外壳等绝缘不良，特别是传感器的应用环境湿度较大，绝缘体的绝缘电阻下降，导致漏电电流增加就会引起干扰。尤其当漏电流流入测量电路的输入级时，其影响就特别严重。
（4）射频干扰
主要是大型动力设备的启动、操作停止的干扰和高次谐波干扰。如可控硅整流系统的干扰等。
（5）其他干扰
现场安全生产监控系统除了易受以上干扰外，由于系统工作环境较差，还容易受到机械干扰、热干扰及化学干扰等。
2、干扰的种类
（1）常模干扰
常模干扰是指干扰信号的侵入在往返2条线上是一致的。常模干扰来源一般是周围较强的交变磁场，使仪器受周围交变磁场影响而产生交流电动势形成干扰，这种干扰较难除掉。
（2）共模干扰
共模干扰是指干扰信号在2条线上各流过一部分，以地为公共回路，而信号电流只在往返2个线路中流过。共模干扰的来源一般是设备对地漏电、地电位差、线路本身具有对地干扰等。由于线路的不平衡状态，共模干扰会转换成常模干扰，就较难除掉了。
（3）长时干扰
长时干扰是指长期存在的干扰，此类干扰的特点是干扰电压长期存在且变化不大，用检测仪表很容易测出，如电源线或邻近动力线的电磁干扰都是连续的交流50Hz工频干扰。
（4）意外的瞬时干扰
意外瞬时干扰主要在电气设备操作时发生，如合闸或分闸等，有时也在伴随雷电发生或无线电设备工作瞬间产生。
干扰可粗略地分为3个方面：
（a）局部产生（即不需要的热电偶）；
（b）子系统内部的耦合(即地线的路径问题)；
（c）外部产生（Bp电源频率的干扰）。
『肆』 为什么原子吸收光谱分析中，噪声干扰主要来源于检测系统
原子吸收光谱是分析化学领域中一种极其重要的分析方法,已广泛用于冶金工业.吸收原子吸收光谱法是利用被测元素的基态原子特征辐射线的吸收程度进行定量分析的方法.既可进行某些常量组分测定,又能进行ppm、ppb级微量测定,可进行钢铁中低含量的Cr、Ni、Cu、Mn、Mo、Ca、Mg、Als、Cd、Pb、Ad；原材料、铁合金中的K2O、Na2O、MgO、Pb、Zn、Cu、Ba、Ca等元素分析及一些纯金属（如Al、Cu）中残余元素的检测.干扰及其消除方法有：
物理干扰
物理干扰是指试样在转移、蒸发过程中任何物理因素变化而引起的干扰效应.属于这类干扰的因素有：试液的粘度、溶剂的蒸汽压、雾化气体的压力等.物理干扰是非选择性干扰,对试样各元素的影响基本是相似的.
配制与被测试样相似的标准样品,是消除物理干扰的常用的方法.在不知道试样组成或无法匹配试样时,可采用标准加入法或稀释法来减小和消除物理干扰.
化学干扰
化学干扰是指待测元素与其它组分之间的化学作用所引起的干扰效应,它主要影响待测元素的原子化效率,是原子吸收分光光度法中的主要干扰来源.它是由于液相或气相中被测元素的原子与干扰物质组成之间形成热力学更稳定的化合物,从而影响被测元素化合物的解离及其原子化.
消除化学干扰的方法有：化学分离；使用高温火焰；加入释放剂和保护剂；使用基体改进剂等.
电离干扰
在高温下原子电离,使基态原子的浓度减少,引起原子吸收信号降低,此种干扰称为电离干扰.电离效应随温度升高、电离平衡常数增大而增大,随被测元素浓度增高而减小.加入更易电离的碱金属元素,可以有效地消除电离干扰.
光谱干扰
光谱干扰包括谱线重叠、光谱通带内存在非吸收线、原子化池内的直流发射、分子吸收、光散射等.当采用锐线光源和交流调制技术时,前3种因素一般可以不予考虑,主要考虑分子吸收和光散射地影响,它们是形成光谱背景的主要因素.
分子吸收干扰
分子吸收干扰是指在原子化过程中生成的气体分子、氧化物及盐类分子对辐射吸收而引起的干扰.光散射是指在原子化过程中产生的固体微粒对光产生散射,使被散射的光偏离光路而不为检测器所检测,导致吸光度值偏高.
『伍』 若是电磁干扰，用什么方法检测电磁波的来源，方位。
分析干扰信号的性质，即可知道是外来干扰，还是系统内部自生的干扰。对回于外来答干扰可以采用隔离，滤波，选频带通。对于内部干扰就是隔离干扰源。
对于干扰源的方位测试需要带有全波段的定向天线和全波段的接收系统，还需要频带很宽的示波器才可以观察到信号的细节，了解了这些才好取得消除干扰的手段。
『陆』 怎么测家里的电磁干扰
EMC问题常常是制约中国电子产品出口的一个原因，本文主要论述EMI的来源及一些非常具体的抑制方法。
· EMC问题来源
· 金属屏蔽效率
· EMI抑制策略
· 屏蔽设计难点
· 衬垫及附件
· 结论
电磁兼容性(EMC)是指“一种器件、设备或系统的性能，它可以使其在自身环境下正常工作并且同时不会对此环境中任何其它设备产生强烈电磁干扰(IEEE C63.12-1987)。”对于无线收发设备来说，采用非连续频谱可部份实现EMC性能，但是很多有关的例子也表明EMC并不总是能够做到。例如在笔记本计算机和测试设备之间、打印机和台式计算机之间以及行动电话和医疗仪器之间等都具有高频干扰，我们把这种干扰称为电磁干扰(EMI)。
EMC问题来源
所有电器和电子设备工作时都会有间歇或连续性电压电流变化，有时变化速率还相当快，这样会导致在不同频率内或一个频带间产生电磁能量，而相应的电路则会将这种能量发射到周围的环境中。
EMI有两条途径离开或进入一个电路：辐射和传导。信号辐射是藉由外壳的缝、槽、开孔或其它缺口泄漏出去；而信号传导则藉由耦合到电源、信号和控制线上离开外壳，在开放的空间中自由辐射，从而产生干扰。
很多EMI抑制都采用外壳屏蔽和缝隙屏蔽结合的方式来实现，大多数时候下面这些简单原则可以有助于实现EMI屏蔽：从源头处降低干扰；藉由屏蔽、过滤或接地将干扰产生电路隔离以及增强敏感电路的抗干扰能力等。EMI抑制性、隔离性和低敏感性应该作为所有电路设计人员的目标，这些性能在设计阶段的早期就应完成。
对设计工程师而言，采用屏蔽材料是一种有效降低EMI的方法。如今已有多种外壳屏蔽材料得到广泛使用，从金属罐、薄金属片和箔带到在导电织物或卷带上喷射涂层及镀层(如导电漆及锌线喷涂等)。无论是金属还是涂有导电层的塑料，一旦设计人员确定作为外壳材料之后，就可着手开始选择衬垫。
金属屏蔽效率
可用屏蔽效率(SE)对屏蔽罩的适用性进行评估，其单位是分贝，计算公式为
SEdB=A+R+B
其中 A：吸收损耗(dB) R：反射损耗(dB) B：校正因子(dB)(适用于薄屏蔽罩内存在多个反射的情况)
一个简单的屏蔽罩会使所产生的电磁场强度降至最初的十分之一，即SE等于20dB；而有些场合可能会要求将场强降至为最初的十万分之一，即SE要等于100dB。
吸收损耗是指电磁波穿过屏蔽罩时能量损耗的数量，吸收损耗计算式为
AdB=1.314(f×σ×μ)1/2×t
其中 f：频率(MHz) μ：铜的导磁率 σ：铜的导电率 t：屏蔽罩厚度
反射损耗(近场)的大小取决于电磁波产生源的性质以及与波源的距离。对于杆状或直线形发射天线而言，离波源越近波阻越高，然后随着与波源距离的增加而下降，但平面波阻则无变化(恒为377)。
相反，如果波源是一个小型线圈，则此时将以磁场为主，离波源越近波阻越低。波阻随着与波源距离的增加而增加，但当距离超过波长的六分之一时，波阻不再变化，恒定在377处。
反射损耗随波阻与屏蔽阻抗的比率变化，因此它不仅取决于波的类型，而且取决于屏蔽罩与波源之间的距离。这种情况适用于小型带屏蔽的设备。
近场反射损耗可按下式计算
R(电)dB=321.8-(20×lg r)-(30×lg f)-[10×lg(μ/σ)] R(磁)dB=14.6+(20×lg r)+(10×lg f)+[10×lg(μ/σ)]
其中 r：波源与屏蔽之间的距离。
SE算式最后一项是校正因子B，其计算公式为
B=20lg[-exp(-2t/σ)]
此式仅适用于近磁场环境并且吸收损耗小于10dB的情况。由于屏蔽物吸收效率不高，其内部的再反射会使穿过屏蔽层另一面的能量增加，所以校正因子是个负数，表示屏蔽效率的下降情况。
EMI抑制策略
只有如金属和铁之类导磁率高的材料才能在极低频率下达到较高屏蔽效率。这些材料的导磁率会随着频率增加而降低，另外如果初始磁场较强也会使导磁率降低，还有就是采用机械方法将屏蔽罩作成规定形状同样会降低导磁率。综上所述，选择用于屏蔽的高导磁性材料非常复杂，通常要向EMI屏蔽材料供货商以及有关咨询机构寻求解决方案。
在高频电场下，采用薄层金属作为外壳或内衬材料可达到良好的屏蔽效果，但条件是屏蔽必须连续，并将敏感部份完全遮盖住，没有缺口或缝隙(形成一个法拉第笼)。然而在实际中要制造一个无接缝及缺口的屏蔽罩是不可能的，由于屏蔽罩要分成多个部份进行制作，因此就会有缝隙需要接合，另外通常还得在屏蔽罩上打孔以便黏着与附加卡或装配组件的联机。
设计屏蔽罩的困难在于制造过程中不可避免会产生孔隙，而且设备运行过程中还会需要用到这些孔隙。制造、面板联机、通风口、外部监测窗口以及面板黏着组件等都需要在屏蔽罩上打孔，从而大大降低了屏蔽性能。尽管沟槽和缝隙不可避免，但在屏蔽设计中对与电路工作频率波长有关的沟槽长度作仔细考虑是很有好处的。
任一频率电磁波的波长为: 波长(λ)=光速(C)/频率(Hz)
当缝隙长度为波长(截止频率)的一半时,RF波开始以20dB/10倍频(1/10截止频率)或6dB/8倍频(1/2截止频率)的速率衰减。通常RF发射频率越高衰减越严重，因为它的波长越短。当涉及到最高频率时，必须要考虑可能会出现的任何谐波，不过实际上只需考虑一次及二次谐波即可。
一旦知道了屏蔽罩内RF辐射的频率及强度，就可计算出屏蔽罩的最大允许缝隙和沟槽。例如如果需要对1GHz(波长为300mm)的辐射衰减26dB,则150mm的缝隙将会开始产生衰减，因此当存在小于150mm的缝隙时，1GHz辐射就会被衰减。所以对1GHz频率来讲，若需要衰减20dB，则缝隙应小于15 mm(150mm的1/10)，需要衰减26dB时，缝隙应小于7.5 mm(15mm的1/2以上)，需要衰减32dB时，缝隙应小于3.75 mm(7.5mm的1/2以上)。
可采用合适的导电衬垫使缝隙大小限定在规定尺寸内，从而实现这种衰减效果。
屏蔽设计难点
由于接缝会导致屏蔽罩导通率下降，因此屏蔽效率也会降低。要注意低于截止频率的辐射其衰减只取决于缝隙的长度直径比，例如长度直径比为3时可获得100dB的衰减。在需要穿孔时，可利用厚屏蔽罩上面小孔的波导特性；另一种实现较高长度直径比的方法是附加一个小型金属屏蔽物，如一个大小合适的衬垫。上述原理及其在多缝情况下的推广构成多孔屏蔽罩设计基础。
多孔薄型屏蔽层：多孔的例子很多，比如薄金属片上的通风孔等等，当各孔间距较近时设计上必须要仔细考虑。下面是此类情况下屏蔽效率计算公式
SE=[20lg (fc/o/σ)]-10lg n 其中 fc/o：截止频率 n：孔洞数目
注意此公式仅适用于孔间距小于孔直径的情况，也可用于计算金属编织网的相关屏蔽效率。
接缝和接点：电焊、铜焊或锡焊是薄片之间进行永久性固定的常用方式，接合部位金属表面必须清理干净，以使接合处能完全用导电的金属填满。不建议用螺钉或铆钉进行固定，因为紧固件之间接合处的低阻接触状态不容易长久保持。
导电衬垫的作用是减少接缝或接合处的槽、孔或缝隙，使RF辐射不会散发出去。EMI衬垫是一种导电介质，用于填补屏蔽罩内的空隙并提供连续低阻抗接点。通常EMI衬垫可在两个导体之间提供一种灵活的连接，使一个导体上的电流传至另一导体。
封孔EMI衬垫的选用可参照以下性能参数： ‧特定频率范围的屏蔽效率 ‧黏着方法和密封强度 ‧与外罩电流兼容性以及对外部环境的抗腐蚀能力。 ‧工作温度范围 ‧成本
大多数商用衬垫都具有足够的屏蔽性能以使设备满足EMC标准，关键是在屏蔽罩内正确地对垫片进行设计。
垫片系统：一个需要考虑的重要因素是压缩，压缩能在衬垫和垫片之间产生较高导电率。衬垫和垫片之间导电性太差会降低屏蔽效率，另外接合处如果少了一块则会出现细缝而形成槽状天线，其辐射波长比缝隙长度小约4倍。
确保导通性首先要保证垫片表面平滑、干净并藉由必要处理以具有良好导电性，这些表面在接合之前必须先遮住；另外屏蔽衬垫材料对这种垫片具有持续良好的黏合性也非常重要。导电衬垫的可压缩特性可以弥补垫片的任何不规则情况。
所有衬垫都有一个有效工作最小接触电阻，设计人员可以加大对衬垫的压缩力度以降低多个衬垫的接触电阻，当然这将增加密封强度，会使屏蔽罩变得更为弯曲。大多数衬垫在压缩到原来厚度的30%至70%时效果比较好。因此在建议的最小接触面范围内，两个相向凹点之间的压力应足以确保衬垫和垫片之间具有良好的导电性。
另一方面，对衬垫的压力不应大到使衬垫处于非正常压缩状态，因为此时会导致衬垫接触失效，并可能产生电磁泄漏。与垫片分离的要求对于将衬垫压缩控制在制造商建议范围非常重要，这种设计需要确保垫片具有足够的硬度，以免在垫片紧固件之间产生较大弯曲。在某些情况下，可能需要另外一些紧固件以防止外壳结构弯曲。
压缩性也是转动接合处的一个重要特性，如在门或插板等位置。若衬垫易于压缩，那么屏蔽性能会随着门的每次转动而下降，此时衬垫需要更高的压缩力才能达到与新衬垫相同的屏蔽性能。在大多数情况下这不太可能做得到，因此需要一个长期EMI解决方案。
如果屏蔽罩或垫片由涂有导电层的塑料制成，则添加一个EMI衬垫不会产生太多问题，但是设计人员必须考虑很多衬垫在导电表面上都会有磨损，通常金属衬垫的镀层表面更易磨损。随着时间成长这种磨损会降低衬垫接合处的屏蔽效率，并给后面的制造商带来麻烦。
如果屏蔽罩或垫片结构是金属的，那么在喷涂抛光材料之前可加一个衬垫把垫片表面包住，只需用导电膜和卷带即可。若在接合垫片的两边都使用卷带，则可用机械固件对EMI衬垫进行紧固，例如带有塑料铆钉或压敏黏结剂(PSA)的“C型”衬垫。衬垫黏着在垫片的一边，以完成对EMI的屏蔽。
衬垫及附件
目前可用的屏蔽和衬垫产品非常多，包括铍-铜接头、金属网线(带弹性内芯或不带)、嵌入橡胶中的金属网和定向线、导电橡胶以及具有金属镀层的聚氨酯泡沫衬垫等。大多数屏蔽材料制造商都可提供各种衬垫能达到的SE估计值，但要记住SE是个相对数值，还取决于孔隙、衬垫尺寸、衬垫压缩比以及材料成分等。衬垫有多种形状，可用于各种特定应用，包括有磨损、滑动以及带铰链的场合。目前许多衬垫带有黏胶或在衬垫上面就有固定装置，如挤压插入、管脚插入或倒钩装置等。
各类衬垫中，涂层泡沫衬垫是最新也是市面上用途最广的产品之一。这类衬垫可做成多种形状，厚度大于0.5mm，也可减少厚度以满足UL燃烧及环境密封标准。还有另一种新型衬垫即环境/EMI混合衬垫，有了它就可以无需再使用单独的密封材料，从而降低屏蔽罩成本和复杂程度。这些衬垫的外部覆层对紫外线稳定，可防潮、防风、防清洗溶剂，内部涂层则进行金属化处理并具有较高导电性。最近的另外一项革新是在EMI衬垫上装了一个塑料夹，同传统压制型金属衬垫相比，它的重量较轻，装配时间短，而且成本更低，因此更具市场吸引力。
结论
设备一般都需要进行屏蔽，这是因为结构本身存在一些槽和缝隙。所需屏蔽可藉由一些基本原则确定，但是理论与现实之间还是有差别。例如在计算某个频率下衬垫的大小和间距时还必须考虑信号的强度，如同在一个设备中使用了多个处理器时的情形。表面处理及垫片设计是保持长期屏蔽以实现EMC性能的关键因素。
电磁波吸收材料系利用软磁铁氧体在高频下损耗增大的现象来达到吸收电磁波的目的。在工程上的实际应用中，除要求材料在很宽（从RF到微波）的频率范围内有高的电磁波能量吸收率外，尚要求材料机械强度好、涂层薄、重量轻、耐温耐湿、抗辐射和抗腐蚀。目前实用的材料有Ni—Zn铁氧体和六角晶系铁氧体等。在工程应用上，为提高对电磁波的吸收率和扩展吸收频率范围，多制成掺有金属短纤维和有机高分子材料的复合物。此外，为克服早期吸收材料寄生于雷达目标表面从而增加了重量之不足，近来国外还研制出一种用吸收材料与工程塑料复合而成的新型结构型载荷体吸收材料，可用于飞机发动机的整流罩，已在美国F—111战斗机上运行数万小时。北美罗克未尔公司也为喷气发动机进气口研制成一种复杂的蜂窝式结构型吸收体，有很高的吸收率及机械强度。 吸收材料的形状 尖劈形。微波暗室采用的吸收体常做成尖劈形，它是在泡沫塑料中掺入碳精粉然后再在外面包上一层高强度型泡沫塑料做保护层，这样吸收体即使受到外界碰撞也不致损坏。但频率降低（波长增长），吸收体长度也大为增加，普通尖劈形吸收体有近似关系式L／λ≈1，所以在100MHz时，尖劈长度达3cm；在60MHz时，尖劈长度达5cm，这不但工艺上难以实现，而且微波暗室有效可用空间也大为减少。 单层平板形。国外最早研制成的吸收体就是单层平板形，后来制成的吸收体都是直接贴在金属屏蔽层上，其厚度薄、重量轻，但工作频率范围较窄。 双层或多层平板形。该种吸收体可在很宽的工作频率范围内工作，且可做成任意形状。如日本NEC公司将铁氧体和金属短纤维均匀分散在合适的有机高分子树脂中做成的复合材料，工作频带可宽达40—50％左右。其缺点是厚度大、工艺复杂、成本较高。 涂层形。在飞行器表面只能用涂层形吸收材料，为展宽频率带，一般都采用复合材料的涂层。如锂镉铁氧体涂层厚2.5—5m m时，在厘米波段可衰减8.5dB；尖晶石铁氧体涂层厚2.5m m时，在9GHz可衰减24dB；铁氧体加氯丁橡胶涂层厚1.7—2.5m m时，在5—10GHz衰减达30dB左右。 结构形。将吸收材料掺入工程塑料使其既具有吸收特性，又具有载荷能力，这是吸收材料发展的一个方向。 近年来，为进一步提高吸收材料的性能，国外还发展了由几种形状组合的复杂形吸收体。如日本采用该类吸收体做成的微波暗室，其性能为：136MHz，25dB；300MHz，30dB；500MHz，40dB；1—40GHz，45dB。 吸收材料的工程应用 在日益重要的隐身和电磁兼容（EMC）技术中，电磁波吸收材料的作用和地位十分突出，已成为现代军事中电子对抗的法宝和“秘密武器”。其工程应用主要有： 隐身技术。在飞机、导弹、坦克、舰艇、仓库等各种装备和军事设施上面涂敷吸收材料，就可以吸收掉侦察电波、衰减反射信号，从而突破敌方雷达的防区，这是反雷达侦察的一种有力手段，减少武器系统遭受红外制导导弹和激光武器袭击的一种方法。此外，电磁波吸收材料还可用来隐蔽着落灯等机场导航设备及其它地面设备、舰船桅杆、甲板、潜艇的潜望镜支架和通气管道等设备。 改善整机性能。飞机机身对电磁波反射产生的假信号，可能导致高灵敏机载雷达假截获或假跟踪；一驾飞机或一艘舰船上的几部雷达同时工作时，雷达收发天线间的串扰有时十分严重，机上或舰上自带的干扰机也会干扰自带的雷达或通讯设备……。为减少诸如此类的干扰，国外常应用吸收材料优良的磁屏蔽来提高雷达或通讯设备的性能。如在雷达或通讯设备机身、天线和周围一切干扰物上涂敷吸收材料，则可使它们更灵敏、更准确地发现敌方目标；在雷达抛物线天线开口的四周壁上涂敷吸收材料，可减少副瓣对主瓣的干扰和增大发射天线的作用距离，对接收天线则起到降低假目标反射的干扰作用；在卫星通信系统中应用吸收材料，将避免通信线路间的干扰，改善星载通讯机和地面站的灵敏度，从而提高通讯质量。 安全防护。由于高功率雷达、通讯机、微波加热等设备的应用，防止电磁辐射或泄漏、保护操作人员的身体健康是一个全新而复杂的课题，吸收材料就可达到这一目的。另外，目前的家用电器普遍存在电磁辐射问题，通过合理使用吸收材料及其元器件也可以有效地加以抑制。 微波暗室。由吸收体装饰的壁面构成的空间称为微波暗室。在暗室内可形成等效无反射的自由空间（无噪音区），从四周反射回来的电磁波要比直射电磁能量小得多，并可忽略不计。微波暗室主要用于雷达或通讯天线、导弹、飞机、飞船、卫星等特性阻抗和耦合度的测量、宇航员用背肩式天线方向图的测量以及宇宙飞船的安装、测试和调整等，这既可消除外界杂波干扰和提高测量精度与效率（室内可全天候工作），还可保守秘密。
『柒』 关于测试系统传输干扰的问题
现今抄，在各试验站中，大功率变频器普遍运用，IGBT开关频率高，输出电源高次谐波含量高，使得测量现场的环境电磁干扰严重。
由于测试传感器一般靠近测量源，干扰无法避免。因此，传输的干扰避免问题尤为重要。
传统的测试方案是将高压大电流信号转换为二次侧的低压、小电流信号，然后通过电缆线连接至功率分析仪，信号越小，信号的信噪比越大，因此，无论采用何种滤波措施也无法消除引入的干扰。
AnyWay变频功率传感器采用光纤总线传输方式，将被测量在传感器端数字化，然后以光纤为传输媒介，与功率分析仪进行通讯，完全避免了传输干扰，传感器的精度也就是测试系统的精度。
『捌』 简述电视监控系统中，干扰图像的原因有哪些
强电干扰比较常见，这个最好规避，不能规避的要增加抗干扰器等设备
信号线路的传输跟信号线路的质量、距离、传输中间设备的质量、稳定性能也会对监控图像产生干扰，这个就需要采购质量较好的线路和设备
『玖』 食物对检测过程的干扰因素
食物对检测过程的干扰因素如下：
一、样品的抽取与制备
样品的抽取与制备直接影响检验结果的准确性。在抽取样品时应该遵循随机原则，要从整批食品中抽取到有代表性的样品，并保证数量满足检验的要求。务必保证抽取样品时使用清洁的工具，不能让有害物质通过使用工具进入样品中。在抽取样品的过程中还应该想方设法使样品的微生物状态与理化指标不发生改变，最重要是不能够受到任何污染。
固体样品要粉碎、混匀，如大米、挂面、黄豆、茶叶等的水分，各项目都需要粉碎后取样;液体样品在检验前要搅混均匀，如检测酱油、醋(除可溶性无盐固形物项目外)需将样品振摇混匀，而检测可溶性无盐固形物应充分振摇后，用滤纸过滤;对其他样品的制备，比如对混合型的食品就要抽取代表性样品的主要部分;在检测啤酒时，如果是检测浊度就要把气除掉，但是不能够进行过滤，如果是检测酒精度项目，就既要除气又要过滤。
二、检验方法的选择
选择最佳的检验方法是确保检验结果准确性的前提。检验人员应该依据国家标准，根据检验的性质、实验室条件以及样品的待测成分的含量来选择最佳的检验方法。有种检验方法叫仲裁法，是检验方法中较多采用的方法，也适用于对结果有争议的检验。仪器分析方法也是种不错的检验方法，实验室条件不容许用仪器分析法的可选用化学分析法;不同食品中含某种成分含量不同时选用的方法也不同，如测定食品中的钙含量，每100g牛奶中钙成分的含量般是100mg，检验人员单单用原子吸收分光光度计就可以进行测量，而对于100g鹿产品胶曩，也用该检验方法进行测量就会出现较大误差，因为鹿产品胶曩中的钙含量是20%左右，检验人员应该选用EDTA滴定法进行测量。
三、仪器的校准
在食品检验过程中需要用到的仪器要定期进行保养与维护，要及时发现仪器的缺陷并加以维修。能自校的仪器(如天平、酸度计等)应保证每周进行自校。自制的蒸馏装置要确保气密性，定期对仪器进行维护保养，以保证其良好的工作状态。计量器具的精确性也会影响检验结果的准确性，所以在选购计量器具时务必选择数值标示精确的计量器具，而且在日常使用中要注意维护。还要定期进行校准，以保证检验结果数据的准确性。
四、检验试剂的影响
检验试剂的质量也会影响检验结果。在检验过程中直接参与化学反应，对检验结果起着至关重要的影响。各类检验试剂有不同的保质期、贮存方式以及使用方法。有些溶液“保质期”有限，如金属元素标准溶液可存放年;标准滴定溶液要求两个月标定次;淀粉溶液、碘化钾溶液要求现用现配等。还有些溶液有特殊的存放要求，如测定食品中亚硝酸盐的显色剂――萘胺盐酸盐溶液要在低温下存放，当颜色变深时弃去重新配制。还有测定纯净水中的高锰酸钾耗氧量，用到的高锰酸钾标准溶液和草酸钠标准溶液，存放时间过长，易发生氧化还原反应，应定期检查重新配制;又如，测定食品中的二氧化硫时，应尽量减少碘标准滴定溶液与空气接触，否则平行试验的差异会超出标准规定的要求。因此，检验人员要关注检验试剂的保存与使用，在配制试剂时保证准确的取量定容。
五、实验室环境的要求
实验室环境对检验结果也有定的影响。如温度、湿度、气压、粉尘等要素不仅会影响仪器的精准度，还会使原先良好的实验条件发生改变，进而影响整体的检验结果。在选择容量法进行分析时，检验人员应该在室温为20摄氏度的条件下进行检验。为了消除温度对食物容量的影响，在检验啤酒的酒精度、原麦汁浓度或者葡萄酒酒精度、总浸出物时，就要在相同的温度条件下进行。而检测饮料中的可溶性固形物时，只有温度控制在10至30摄氏度的范围内，才能保证准确的检验结果。
六、提高检验人员素质水平
操作人员掌握操作规程的熟练程度，直接影响到检验结果。由于人为因素造成的误差，有可能为偶然误差，也有可能为过失误差。例如，在测定白酒中的总酯时，不同的操作人员，滴定速度不同也可造成检验结果的差异，这种误差可尽量设法减免。但是，由于操作人员对检验方法标准理解能力有限而造成的差异将会严重影响结果的准确度。因此，检验人员应该加强平时的专业水平培训，学习新知识新技术，积累更多实践经验，以更好适应相关的检验工作。即使是偏远地区，也应该配备位高水平的检验人员。
『拾』 西门子PLC 信号输入电路的干扰来源有哪些
1。系统接地。
2。屏蔽电缆屏蔽层的两头重复接地产生的电容干扰。
3。西门专子输入电路内部开关量采属用组形式，模拟量采用双通道形式的内外隔离，外部采用存在的通道干扰。
4.外部检测采样使用电源不规范（前联电源不统一）。
5.线路干扰。