2000l自動溶葯裝置

① 化學實驗室學生做實驗以後廢液怎麼處理

化驗室廢水的處理辦法：

1、含鉻廢液的處理主要來源於鉻酸廢液，重鉻酸鉀滴定廢液分析實驗中產生的含鉻廢液的處理：首先在酸性條件下向含鉻廢液中加人廢鐵屑，FeS04或硫化物，亞硫酸鹽等還原劑，將強毒性的Cr0』還原十轉變成毒性較小的Cr"，然後加廢鹼液或氫氧化鈉，氫氧化鈣，生石灰等，調節溶液pH值至7左右，使CrI1轉變成低毒的Cr（OH）沉澱，分離出沉澱後的清液即可直接排放，沉渣經脫水乾燥後可綜合利用，或用焙燒法處理，處理後的鉻渣可與水泥混合，固化後即可填埋子地下.

2、含鉛，鉍廢液的處理

絡合滴定法連續測定混合液中的Bi"和Pb，是定量分析的一個重要實驗，也是鉛，鉍廢液的主要來源，該實驗產生的廢液如果直接排放對環境和人體的危害極大，而且還浪費了寶貴的資源.為此可先採用如下方法對廢液處理後，再直接回收並循環使用.

（I）對集中鉛，鉍連續測定後的廢液，每次取2500mL於3000mL大燒杯中，在電爐加熱到近沸後取下，在攪拌時趁熱加人2mol/L Na，S溶液至廢液的PH值為12.

5一13.0，充分攪拌後靜置沉澱（也可再攪拌兩次），由於溶液中存在著六次甲基四胺鹽和Na等強電解質，硫化物會很快沉澱，其上層清液呈紫紅色，是二甲酚橙指示劑在鹼性條件下的顏色.

（2）傾去仁層清液後，再每次用1500mL左右的自來水以傾瀉法洗滌產生的硫化物沉澱3次，再用少量的去離子水清洗2次，最後使硫化物沉澱和水的體積在1500mL左右，待沉澱被水充分洗滌後，再加人濃HNO，14mL，加熱至黑色硫化物完全溶解，然後加熱煮沸2min，驅除氮氧化合物，冷卻後過濾，最後將濾液稀釋至830mL即可值得注意的是該法再生後的混合溶液酸度恰好在EDTA滴定Bi'所需的pH值.7一1..的范圍內，這樣不必再用氫氧化鈉中和，直接可供下一次做實驗時重復使用，而且該法鉛，秘回收率均在99%以上，是一種保護環境，節約資源的好方法.

3：含汞廢液的處理方法

此方法主要來源於鐵礦石中鐵含量測定的預處理劑SnC1一HgC1：的反應過程，一般採用：

（1）化學凝聚沉澱法：含汞廢液先用NaoH把溶液的pH值調至8一10，加人過量的硫化鐵或硫化鈉，使其生成硫化汞沉澱，再加人一定量硫酸亞鐵作絮凝劑，將懸浮在水中難以沉澱的硫化汞微粒吸附而共同沉澱，然後靜置，分離或經離心過濾後，清液即可直接排人下水道，殘渣用緞燒法回收或再製成汞鹽

（2）汞齊提取法：在汞廢液內加人鋅屑或鋁屑，使廢液中的汞很容易被鋅或鋁置換出來，同時汞又能』j之生成鋅汞齊或鋁汞齊，從而使廢水達到凈化.還可採用電解法除去與汞生成汞齊的雜質，再用真空蒸餾法製取高純度的求.

4、含砷廢液的處理

在含砷廢液中加人生石灰，調節並控制pH值為8左右，即可生成砷酸鈣和亞砷酸鈣沉澱，有Fe"存在時還可一起沉澱下來，待沉澱分離後，濾液即可直接排人下水道，殘渣可作廢渣處理

5、含氰廢液的處理

（1）若CN-含量少，宜採用KMn0，氧化法，即在廢液中加人NaOH，調pH值至10以上，再加入3%KMn0，.使CN氧化分解；

（2）若CN含量高，則可採用鹼性氯化法即在廢液中加入NaOH，調pH值至10以上，加人次氯酸鈉使CN氧化分解。

② 氨氮的測試方法

氨氣敏電極法
1 原理
在pH值大於11的環境下，銨根離子向氨轉變，氨通過氨敏電極的疏水膜轉移，造成氨敏電極的電動勢的變化，儀器根據電動勢的變化測量出氨氮的濃度。
2 檢測步驟
用新的水樣沖洗測量水樣、試劑體積的容器和電極安裝管。
使用蠕動泵進樣。水樣並不直接與蠕動泵管接觸－－有一個空氣緩沖區。進樣的體積由一可視測量系統控制。
與進樣相同，輔助試劑也通過蠕動泵投加，並由可視測量系統控制加葯體積。
通過鼓泡混合水樣和試劑。
由測量系統自動控制反映時間。
殘液由蠕動泵排出。
在用戶自定義的測量周期中，分析儀會利用內置的校準標液和清洗溶液自動進行校準和清洗。
3 如何分辨氨氣敏電極法儀器的性能
1.量程：電極法氨氮量程規格分為：0-1200；0-2000；0-3000；0-10000不等。並且量程自由切換，量程越大，說明儀器採用的電極的適應性越強。
2.最低檢出限：儀器的最低檢出限越低，代表電極的品質越好，一般為0.05mg/l。
納氏試劑分光光度法 碘化汞和碘化鉀的鹼性溶液與氨反應生成淡紅棕色膠態化合物，其色度與氨氮含量成正比，通常可在波長410~425nm范圍內測其吸光度，計算其含量.
本法最低檢出濃度為0.025mg/L（光度法），測定上限為2mg/L.採用目視比色法，最低檢出濃度為0.02mg/L.水樣做適當的預處理後，本法可用於地面水，地下水，工業廢水和生活污水中氨氮的測定. 2.1 帶氮球的定氮蒸餾裝置：500mL凱氏燒瓶，氮球，直形冷凝管和導管.
2.2 分光光度計
2.3 pH計 配製試劑用水均應為無氨水
3.1 無氨水可選用下列方法之一進行制備：
蒸餾法：每升蒸餾水中加0.1mL硫酸，在全玻璃蒸餾器中重蒸餾，棄去50mL初餾液，按取其餘餾出液於具塞磨口的玻璃瓶中，密塞保存.
離子交換法：使蒸餾水通過強酸型陽離子交換樹脂柱.
3.2 1mol/L鹽酸溶液.
3.3 1mol/L氫氧化納溶液.
3.4 輕質氧化鎂（MgO）：將氧化鎂在500℃下加熱，以除去碳酸鹽.
3.5 0.05%溴百里酚藍指示液：pH6.0~7.6.
3.6 防沫劑，如石蠟碎片.
3.7 吸收液：
硼酸溶液：稱取20g硼酸溶於水，稀釋至1L.
0.01mol/L硫酸溶液.
3.8 納氏試劑：可選擇下列方法之一制備：
稱取20g碘化鉀溶於約100mL水中，邊攪拌邊分次少量加入二氯化汞（HgCl2）結晶粉末（約10g），至出現朱紅色沉澱不易溶解時，改寫滴加飽和二氯化汞溶液，並充分攪拌，當出現微量朱紅色沉澱不再溶解時，停止滴加二氯化汞溶液.
另稱取60g氫氧化鉀溶於水，並稀釋至250mL，冷卻至室溫後，將上述溶液徐徐注入氫氧化鉀溶液中，用水稀釋至400mL，混勻.靜置過夜將上清液移入聚乙烯瓶中，密塞保存.
稱取16g氫氧化鈉，溶於50mL水中,充分冷卻至室溫.
另稱取7g碘化鉀和碘化汞（HgI2）溶於水，然後將此溶液在攪拌下徐徐注入氫氧化鈉溶液中，用水稀釋至100mL，貯於聚乙烯瓶中，密塞保存.
3.9 酒石酸鉀鈉溶液：稱取50g酒石酸鉀鈉KNaC4H4O6·4H2O）溶於100mL水中，加熱煮沸以除去氨，放冷，定容至100Ml.
3.10 銨標准貯備溶液：稱取3.819g經100℃乾燥過的優級純氯化銨(NH4Cl）溶於水中，移入1000mL容量瓶中，稀釋至標線.此溶液每毫升含1.00mg氨氮.
3.11 銨標准使用溶液：移取5.00mL銨標准貯備液於500mL容量瓶中，用水稀釋至標線.此溶液每毫升含0.010mg氨氮. 4.1 水樣預處理：取250mL水樣（如氨氮含量較高，可取適量並加水至250mL，使氨氮含量不超過2.5mg），移入凱氏燒瓶中，加數滴溴百里酚藍指示液，用氫氧化納溶液或鹽酸溶液調節至pH7左右.加入0.25g輕質氧化鎂和數粒玻璃珠，立即連接氮球和冷凝管，導管下端插入吸收液液面下.加熱蒸餾，至餾出液達200mL時，停止蒸餾，定容至250mL.
採用酸滴定法或納氏比色法時，以50mL硼酸溶液為吸收液；採用水楊酸-次氯酸鹽比色法時，改用50mL0.01mol/L硫酸溶液為吸收液.
4.2 標准曲線的繪制：吸取0,0.50,1.00,3.00,7.00和10.0mL銨標准使用液分別於50mL比色管中，加水至標線，加1.0mL酒石酸鉀溶液，混勻.加1.5mL納氏試劑，混勻.放置10min後，在波長420nm處，用光程20mm比色皿，以水為參比，測定吸光度. 由測得的吸光度，減去零濃度空白管的吸光度後，得到校正吸光度，繪制以氨氮含量（mg）對校正吸光度的標准曲線.
4.3 水樣的測定：
分取適量經絮凝沉澱預處理後的水樣（使氨氮含量不超過0.1mg），加入50mL比色管中，稀釋至標線，加入0.1mL酒石酸鉀鈉溶液.以下同標准曲線的繪制.
分取適量經蒸餾預處理後的餾出液，加入50mL比色管中，加一定量1mol/L氫氧化納溶液，以中和硼酸，稀釋至標線.加1.5mL納氏試劑，混勻.放置10min後，同標准曲線步驟測量吸光度.
4.4 空白實驗：以無氨水代替水樣，做全程序空白測定. 由水樣測得的吸光度減去空白實驗的吸光度後，從標准曲線上查得氨氮量（mg）後，
按下式計算：
氨氮（N,mg/L)=m/V×1000
式中：m——由標准曲線查得的氨氮量，mg;
V——水樣體積，mL. 6.1 納氏試劑中碘化汞與碘化鉀的比例，對顯色反應的靈敏度有較大影響.靜置後生成的沉澱應除去.
6.2 濾紙中常含痕量銨鹽，使用時注意用無氨水洗滌.所用玻璃皿應避免實驗室空氣中氨的玷污. 廢水中氨氮的構成主要有兩大類，一種是氨水形成的氨氮，一種是無機氨形成的氨氮，主要是硫酸銨，氯化銨等等。共分四種：有機氮.氨氮.亞硝酸氮（NO2-）和硝酸氮（NO3-）。
而自然地表水體和地下水體中主要以硝酸鹽氮(NO3-）為主。
高氨氮廢水的一般的形成是由於氨水和無機氨共同存在所造成的，
一般上ph在中性以上的廢水氨氮的主要來源是無機氨和氨水共同的作用，
ph在酸性的條件下廢水中的氨氮主要由於無機氨所導致。

③ ICP電感耦合等離子體發射光譜儀的原理和用途

1. 儀器介紹

   ICP2000是天瑞儀器公司經多年技術積累而開發的電感耦合等離子體發射光譜儀，用於測定各種物質（可溶解於鹽酸、硝酸、氫氟酸等）中常量、微量、痕量金屬元素或非金屬元素的含量。採用先進的電子電路系統和網路介面的通信方式，實現了儀器的尋峰、測試、譜圖描跡快速簡便化操作，自動化程度高、操作簡便、穩定可靠，使結果准確度更高，人性化設計的儀器操作界面，可針對不同元素、不同波長設置最佳的測試條件，並有儀器診斷功能，提高儀器的智能化操作。

2. 性能特點

   1.可測元素70多種

   2.分析速度快，一分鍾可測5-8個元素

   3.多元素同時分析，客戶可以自由選擇元素數量與安排測量順序

   4.檢出限低，達到ppb量級，Ba甚至達到0.7ppb

   5.線性動態范圍寬，高達6個數量級，高低含量可以同時測量

   6.分析成本低，一瓶氬氣可以用8個小時

   7.全自動化設計，除電源開關外，儀器全部功能由軟體控制。

   8.網路介面通訊方式，大大提升了通信速度，屏蔽了高頻的干擾。

   9.配備進口玻璃霧化器，霧化效率好，性能更穩定。

   10. 軟體通過質量流量控制器（MFC）來控制三路氣體流量。

   11. 點火方式：軟體控制點火，有點火位置記憶功能，匹配位置記憶功能。

   12.特有的儀器診斷功能，可實時監測儀器工作狀態。

   13.獨立開發，具有自主知識產權的分析軟體，人性化的操作界面，中英文界面的快速切換，自動生成分析報告。

3. 技術指標

   ①射頻發生器技術指標：

   1.電路類型：自激振盪電路，同軸電纜輸出，匹配調諧，功率反饋閉環自動控制。

   2.工作頻率：40.68MHz±0.05％

   3.頻率穩定性：＜0.1%

   4.輸出功率：800W—1200W

   5.輸出功率穩定性：＜0.2%

   6.電磁場泄漏輻射強度：距機箱30cm處電場強度E：＜10V/m ；磁場：H＜0.2A/m。

   ②進樣裝置技術指標：

   1.輸出工作線圈：銅質，帶有聚四氟乙烯外套，內徑25mm，3匝。

   2.矩管：三同心型，外徑20mm的石英矩管

   3.同軸型噴霧器：外徑6mm

   4.雙筒形霧室外徑：35mm

   5.氬氣流量計規格和載氣壓力表規格：

   （1）等離子氣流量計 ：0.0-20.0L/min

   （2）輔助氣流量計： 0.0-1.0L/min

   （3）載氣流量計：0.0-1.0L/min

   （4）載氣穩壓閥：0-0.4MPa

   （5）冷卻水：水溫20-25℃ 流量>7L/min 水壓>0.1MPa ，冷卻水電阻率大於1MΩ。

   ③分光器技術指標:

   1.光路：Czerny-Turner

   2.焦距： 1000 mm

   3.光柵規格：離子刻蝕全息光柵，刻線密度3600線/mm(可選用刻線密度2400線/mm)，刻劃面積（80×110）mm

   4.線色散率倒數：0.26nm/mm

   5.解析度：≤ 0.008nm(3600刻線）. ≤0.015nm(2400刻線）

   6.掃描波長范圍： 3600線/mm掃描波長范圍：190—500 nm ; 2400線/mm掃描波長范圍：190—800 nm

   7.步進電機驅動最小步距:0.001 nm

   8.入射狹縫：25μm；出射狹縫：18μm

   9.透鏡：Φ30，1：1成像

   10. 反射鏡規格：（80×105）mm

4. 測光裝置:

   1.光電倍增管規格：R212或R928

   2.光電倍增管負高壓： （-50～-1000）V

   3.光電倍增管電流測量范圍： （10～12～10～4）A

   4.信號採集方式： V/F轉換

   5.采樣電路：1mv對應頻率100Hz；

   6.儀器數據採集： 計數方式

   7.測光方式：垂直觀測

5. 標准配置

   1.ICP2000主機1台

   穩壓電源1台

   自動控溫冷卻循環水裝置1台

   2.附件箱

6. 應用領域

   金屬材料（包括貴金屬、稀有金屬）、非金屬材料、礦石、土壤、核燃料、煤、石油及其產品、化肥、化工原料、半導體晶片、陶瓷材料、食品、葯品、血液、水（純水、廢水）、空氣等幾乎所有材料中雜質（或粒子）的測定。

④ EDI電去離子設備

西門子EDI模塊INPURELX-Z連續生產高純水，不需要化學葯劑。針對工業應用而開發。

EDI電去離子設備

INPURELX-Z工業型膜堆利用連續電去離子技術(CEDI)生產高純水，其產水水質等同甚至優於混床出水。INPURE膜堆可極其可靠的為電力、電子、太陽能、HPI/CPI、食品和飲料行業，以及實驗室提供高品質的高純水且不需要停機再生。

⑤ 超聲波清洗機是用來干什麼的

超聲波清洗廣泛應用於表面噴塗處理行業、機械行業、電子行業、醫療行業、半導體行業、鍾表首飾行業、光學行業、紡織印染行業。其他行業等，並由易凈超聲波清洗提供，具體如下：
1、 表面噴塗處理行業：（清洗的附著物：油、機械切屑、磨料、塵埃、拋光蠟）電鍍前的清除積炭、清除氧化皮、清除拋光膏、除油除銹、離子鍍前清洗、磷化處理，金屬工件表面活化處理等。不銹鋼拋光製品、不銹鋼刀具、餐具、刀具、鎖具、燈飾、手飾的噴塗前處理、電鍍前清洗。
2、機械行業：（清洗的附著物：切削油、磨粒、鐵屑、塵埃、指紋）
防銹油脂的去除；量具的清洗；機械零部件的除油除銹；發動機、發動機零件、變速箱、減振器、軸瓦、油嘴、缸體、閥體、化油器及汽車零件及底盤漆前除油、除銹、磷化前的清洗；過濾器、活塞配件、濾網的疏通清洗等。精密機械部件、壓縮機零件、照相機零件、軸承、五金零件、模具、尤其在鐵路行業，對列車車廂空調的除油去污、對列車車頭各部件的防銹、除銹、除油非常適合。
4、醫葯行業：（清洗的附著物：血液、明膠、塵、指紋、血漬、蛋白；醫葯研發中化學合成振盪溶解等）
注射器、手術器械、滴管、研究實驗用具、玻璃容器、牙科用具、食道鏡、氣管支鏡、直腸鏡、顯微鏡的消毒、殺菌、清洗等。
5、半導體行業：（清洗的附著物：血液、明膠、塵、指紋、血漬、蛋白）半導體晶片的高清潔度清洗。
6、 鍾表首飾行業：（清洗的附著物：油漆、凡立水、油脂、染料、塑膠殘留物、塵埃、指紋）
清除灰塵、氧化層、拋光膏、貴金屬、裝飾品、計器、表帶、表殼、表針、數字盤、油泥等。
7、 光學行業：（清洗的附著物：油漆、凡立水、油脂、染料、銹、塑膠殘留物、塵埃、指紋）
玻璃鏡片、樹脂鏡片、顯微鏡、望遠鏡、相機鏡頭、鍍膜玻璃、棱鏡、透鏡等光學製品的鍍膜前後及裝配前工序間清洗；在光電行業主要應用於ITO導電玻璃、LCD基板清洗、液晶片封裝後殘留液晶清洗。
8、 紡織印染行業：（清洗的附著物：指紋、塵、油墨、染料、塑膠殘留物、橡膠殘渣）、、
清洗、噴絲板、拉絲板，紡織錠子、纖維絲（不銹鋼絲、鎳絲、銅絲等）進行除油去污
9、其他行業：（清洗的附著物：手垢、塵埃、指紋、汗漬）印章、號牌、硬幣高級陶器、銀製品、金製品、銀行磁卡等。