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楊氏雙縫實驗裝置浸入

發布時間:2025-02-10 12:14:36

❶ 在楊氏雙峰干涉裝置中, 雙縫到屏幕的距 離為 D =2.00 m ,所用光的波長為 589 nm

△x=D入/d 入2=入*1.33 其餘不改變 △x=入2*D/d=3.44*1.33/10cm=0.45cm

❷ 楊氏雙縫實驗中,若做如下調節時,屏幕上的干涉條紋將如何變化

(1)條紋變疏;
(2)條紋變密;
(3)條紋變疏;
(4)條紋變密;
(5)零級明紋在屏幕上作相反方向的上下移動;
(6)零級明紋向下移動.

❸ 在楊氏雙縫干涉實驗中,把裝置浸入水中,干涉條紋的間距怎麼變

在楊氏雙縫干涉實驗中,把裝置浸入水中,干涉條紋的間距會變小。由於楊氏雙縫干涉的條紋間距和介質波長成正比,在水中的介質波長小於在空氣中的波長,所以條紋間距會減小。

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