㈠ 一個由電機控制的可以在實驗台的豎直導軌上自動上下移動的裝置的問題
1、垂直移動可用絲杠軸承，絲杠的轉動螺母（實際不是螺母，是個小平回台）上聯接所要移動的平答台，絲杠的下端聯接小電機，帶動平台進行上下移動。
2、位置的檢測可用行程開關或光電二極體（位置可調），盡量不用感測器，因為控制線路較麻煩。
3、停止或啟動的時間用時間繼電器。
這是最簡易的方法，簡單價廉，適用於對位置要求不是十分精確的場合。
㈡ 位置檢測裝置在數控機床控制中起什麼作用
數控機床的加工精度主要與機械精度，數控系統和伺服系統有關，這幾個環節的精度都必須達到要求。
解析度是機床能識別的最小單位，直接決定機床精度的好壞。主要由數控系統和伺服系統決定。
㈢ 實驗四 潛水模擬演示
一、實驗目的
1. 熟悉與潛水有關的基本概念，理解潛水與潛水含水層的基本要素。
2. 增強對潛水補給、徑流和排泄的感性認識。
3. 加深對流網、潛水流動系統概念的理解，培養綜合分析問題的能力。
二、實驗內容
1. 觀察降雨與降雨入滲的過程。
2. 確定潛水面形狀。
3. 分析地下水分水嶺的移動。
4. 演示不同條件下的潛水流網。
5. 設計性實驗: 利用潛水模擬演示儀進行潛水流動系統的演示。
三、實驗儀器和用品
1. 潛水演示儀 (見圖Ⅰ4-1) 。儀器的主要組成部分及功能如下。
1) 槽體: 內盛均質砂，模擬含水層。
2) 降雨裝置: 模擬降雨，可人為控制雨量的大小及降雨的分布。
3) 模擬井: 兩個完整井和兩個非完整井分別裝在儀器的正面 (A 剖面) 和背面(B 剖面) ，均可人為對任一井進行抽 (注) 水模擬，也可以聯合抽 (注) 水。
4) 模擬集水廊道: 可人為控制集水廊道的排水。
5) 測壓點: 與測壓板上的測壓管連通，可以測定任一測壓點的測壓水頭; 與示蹤劑注入瓶連通可以演示流線。
6) 測壓板。
7) 示蹤劑注入瓶。
8) 穩水箱 (用於穩定模擬河水位) 。
9) 蠕動泵 (用於模擬抽水) 。
2. 示蹤劑。選用紅墨水演示流線。
3. 直尺 (長度 50 cm) 和計算器等。
圖Ⅰ4-1 潛水演示儀裝置實體圖
四、實驗步驟
1. 熟悉潛水演示儀的結構及功能
潛水演示儀裝置實體圖如圖Ⅰ4-1 所示。
2. 降雨入滲與地表徑流的演示
打開降雨開關，人為調節降雨強度。保持兩河較低水位排水。認真觀察降雨與降雨入滲過程，地表徑流產生情況。分析討論:
1) 降雨強度與入滲、地表徑流的關系。
2) 地形與地表徑流的關系。
3. 觀測有入滲條件的潛水面形狀
如圖Ⅰ4-2 所示，潛水含水層中，等勢線上各點的水頭都相等，即 B、C、D 各點測壓水位分別與潛水面上 M、N、O 各點的測壓水位相等。由此，可以按以下步驟確定潛水面的形狀。
1) 給予中等強度降雨，保持兩河以相等低水位排水，待水位穩定後，測定井水位和河水位，並按比例表示在圖Ⅰ4-3 上。
2) 在河與分水嶺之間選擇 3 ～ 5 個測壓點，注入示蹤劑，觀察流線特徵，分析流網分布規律，在圖Ⅰ4-3 上畫出流線和等勢線。
3) 選擇 3 ～ 5 個測壓點與測壓管連接 (注意連接時不要進氣) ，測定測壓點測壓水位，按比例表示在圖Ⅰ4-3 上。自各測壓點測壓水位頂點作水平線與各測壓點所在的等勢線 (各交點均在潛水位線上) 相交。結合井水位和河水位以及各平行線與等勢線的交點，在圖Ⅰ4-3 上描繪潛水位線。
圖Ⅰ 4-2 潛水含水層中等勢線任一點水頭示意圖(測壓管塗黑部分為對應點的測壓高度)
4. 觀測地下水分水嶺的偏移
給予中等強度均勻降雨，保持兩河以相等低水位排水，觀察地下水分水嶺的位置。
抬高一側河水位，即抬高一側的穩水箱，觀察地下水分水嶺向什麼方向移動。試分析為什麼分水嶺會發生移動，能否穩定; 停止降雨，地下水分水嶺又將如何變化。認真觀察停止降雨後地下水分水嶺的變化過程。
5. 選擇性實驗內容
分組選擇人為活動影響下，地下水與河水的補給和排泄關系的變化演示。
基本實驗條件: 給予中等強度降雨，保持兩河以相等較高水位排水，使地下水位處於穩定的初始狀態，選擇 3 ～5 個測壓點注入紅色示蹤劑。具體演示內容如下。
1) 集水廊道排水: 打開集水廊道開關進行排水。觀察流線變化特徵，分析集水廊道排水對地下水與河水的補給和排泄關系的影響。
2) 完整井抽 (注) 水: 恢復初始狀態。將蠕動泵水管分別插入兩個完整井內，進行同流量或不同流量的抽水。觀察地下水分水嶺的變化及流線形態。
3) 非完整井抽水: 恢復初始狀態。將蠕動泵水管分別插入兩個完整井內，通過開關控制兩個非完整井的等降深抽水。在適當的測壓點上注入示蹤劑，觀察流線形態並在圖Ⅰ4-4 上描繪地下水流線。分析討論: 兩個非完整井的等降深抽水時，各井的抽水量是否相等。
五、實驗成果
1. 根據上述實驗步驟 3 在圖Ⅰ4-3 上繪制剖面的流網圖。
2. 根據實驗步驟 5 中非完整井抽水的演示，在圖Ⅰ4-4 上示意性畫出兩個非完整井的等降深抽水時的流網圖。
3. 思考: 對於河間地塊潛水含水層，當河水位不等時，地下水分水嶺偏向哪一側。試分析其原因。
4. 對選做實驗結果進行描述。
六、設計性實驗 (供參考)
1. 對於河間地塊潛水含水層，在不均勻降雨條件下流網與 流 動 系統 特徵 如 何變化。
2. 對於河間地塊潛水含水層，在中等強度均勻降雨條件下，一個水井以不同強度抽水，地下水流會發生哪些變化。
3. 對於河間地塊潛水含水層 (實驗用潛水演示儀) ，在什麼條件下可以形成多級流動系統。試設計實驗方案並進行演示。
圖Ⅰ4-3 潛水模擬演示 (A 剖面)
圖Ⅰ4-4 潛水模擬演示 (B 剖面)
㈣ 數控機床對位置檢測裝置的要求有哪些 詳細
直接測量和間接測量
1．直接測量
直接測量是將檢測裝置直接安裝在執行部件上，如光柵、感應同步器等用來直接測量工作台的直線位移，位置檢測裝置安裝在執行部件(即末端件)上直接測量執行部件末端件的直線位移或角位移，可以構成閉環進給伺服系統。測量方式有直線光柵、直線感應同步器、磁柵、激光干涉儀等測量執行部件的直線位移。由於此種檢測方式是採用直線型檢測裝置對機床的直線位移進行測量，因此，其優點是直接反映工作台的直線位移量；缺點是要求檢測裝置與行程等長，對大型的數控機床來說，這是一個很大的限制。
2．間接測量
間接測量裝置是將檢測裝置安裝在滾珠絲杠或驅動電動機軸上，通過檢測轉動件的角位移來間接測量執行部件的直線位移。
位置檢測裝置安裝在執行部件前面的傳動元件或驅動電動機軸上，測量其角位移，經過傳動比變換以後才能得到執行部件的直線位移量，這樣可以構成閉環伺服進給系統，如將脈沖編碼器裝在電動機軸上。
間接測量使用可靠、方便，無長度限制；其缺點是，在檢測信號中加入了直線轉變為旋轉運動的傳動鏈誤差，從而影響測量精度。一般需對數控機床的傳動誤差進行補償，才能提高定位精度。
除了以上位置檢測裝置，伺服系統中往往還包括檢測速度的元件，用以檢測和調節發動機的轉速。常用的元件是測速發電機。
位置檢測裝置是數控機床伺服系統的重要組成部分。它的作用是檢測位移和速度，發送反饋信號，構成閉環或半閉環控制。數控機床的加工精度主要由檢測系統的精度決定。不同類型的數控機床，對位置檢測元件，檢測系統的精度要求和被測部件的最高移動速度各不相同。現在檢測元件與系統的最高水平是：被測部件的最高移動速度高至240m/min時，其檢測位移的解析度（能檢測的最小位移量）可達1μm，如24m/min時可達0.1μm。最高解析度可達到 0.01μm。
數控機床對位置檢測裝置有如下要求：
（1）受溫度，濕度的影響小，工作可靠，能長期保持精度，抗干擾能力強。
（2）在機床執行部件移動范圍內，能滿足精度和速度的要求。
（3）使用維護方便，適應機床工作環境。
（4）成本低。
㈤ 位置檢測裝置的種類和它們分別安裝在機床哪些部位
位置檢測裝置
一、位置檢測裝置的分類和要求
位置檢測裝置是閉環進給伺服系統的重要組成部分，其精度在很大程度上由位置檢測裝置的進度決定。現在，檢測元件與系統的最高水平：被測部件的最高移動速度240m/min時，檢測位移解析度1um；24m/min時，解析度0.1um；最高解析度可達0.01um。
對位置檢測裝置的要求：
1） 受溫度、濕度的影響小，工作可靠，能長期保持精度，抗干擾能力強；
2） 在機床執行部件移動范圍內，能滿足精度和速度要求；
3） 使用維護方便，適應機床工作環境。
4） 成本低。
（一）數字式和模擬式測量（所獲得的信號不同）
1．數字式測量
將被測量以數字的方式表示。測量信號一般為電脈沖，可直接送到數控裝置進行比較處理和顯示。這樣的檢測裝置有：光柵檢測裝置、脈沖編碼器。裝置比較簡單，抗干擾能力強。
2．模擬式測量
將被測量用連續變數表示。如：電壓的幅值變化、相位變化。對相位變化的量可直接送數控裝置與移相的指令電壓進行比較，對幅值變化的量，可先將其轉換為數字脈沖信號，再送數控裝置進行比較和顯示。這類裝置有：旋轉變壓器、感應同步器。
（二）增量式和絕對式測量（測量方式不同）
1．增量式測量
只測出位移的增量，並用數字脈沖的個數來表示單位位移的數量。
由於位移的距離是由增量值累積求得，所以，一旦某處測量有誤，則其後所得的位移距離都是錯誤的。
由於不能指示絕對坐標位置，當因事故斷電停機檢查，執行部件的位置發生變化後，不能由檢修後的位置直接回到停機時的原位，而要先回到加工程序的起始位置，並計算出起點到停機位置的距離，才能用位移指令，令執行部件移回停機時的位置，以便繼續加工。光柵、脈沖編碼器、旋轉變壓器、感應同步器、磁尺都是增量式檢測裝置。
2．絕對式測量
能測出被測部件在某一絕對坐標系中的絕對坐標值，並以二進制或二十進制數碼信號表示。需要轉換成脈沖數字信號才能送去比較和顯示。有：絕對式脈沖編碼盤、三速式絕對編碼盤。結構復雜，解析度與位移量都受限制。
此外，根據安裝測量位置，有直接測量和間接測量。
㈥ 氮化鋁（AlN）是新型的電子絕緣基片材料，用於大型和超大型集成電路中．某興趣小組開展了製取氮化鋁並測
【實驗一】
甲組：（1）氫氧化鈉溶液吸收空氣中二氧化碳，濃硫酸吸收通過氫氧化鈉溶液的氣體中的水，若兩裝置交換位置，則氣體中的水不能被吸收；
（2）根據信息：在高溫下氮氣、碳和三氧化二鋁反應可以生成氮化鋁粉和一氧化碳，裝置D中發生反應化學方程式為：N2+3C+Al2O3
|