下圖乾燥裝置的作用

A. 什麼是乾燥裝置用這個做什麼

乾燥裝置

就是用來去除氣體中所夾帶的水蒸氣

B. 如圖所示裝置是用於氣體制備、乾燥、性質驗證、尾氣處理的部分儀器裝置（加熱及夾持固定裝置均已略去）．

（1）①過氧化鈉能和水反應生成氫氧化鈉和氧氣，所以氫氧化鈉溶液含有大量的氫氧根離子，氨水能電離出氫氧根離子，所以過氧化鈉與水反應生成的氫氧根離子使溶液中的氫氧根離子的濃度增大，抑制氨水的電離，有利於氨氣的逸出，
故答案為：Na₂O₂與水反應生成OH^-，c（OH^-）增大，抑制NH₃?H₂O的電離，有利於NH₃的逸出；
②用產生的氣體做氨的催化氧化實驗，產生的氨氣中含有水蒸氣，所以需要乾燥裝置，則，應選擇裝置D；氨氣和氧氣的反應需要反應裝置，需要裝置B；反應後的氣體不能直接排空，需要尾氣處理裝置，以含有氮的氧化物，則用鹼液來處理尾氣，則選擇裝置E，所以裝置連接順序為D→B→E，
故答案為：D→B→E；
（2）當制備H₂、驗證H₂還原性並檢驗H₂的氧化產物，需要的裝置有制備H₂裝置、驗證H₂還原性裝置、檢驗H₂的氧化產物裝置和防止干擾裝置，用氧化銅驗證氫氣的還原性，用無水硫酸銅驗證氫氣的氧化產物，用乾燥管防止空氣成分的干擾．
①氫氣和氧化銅反應生成銅和水，所以氫氣和氧化銅的反應方程式為H₂+CuO