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實驗室陽極氧化裝置小

發布時間:2023-04-14 07:44:04

『壹』 做陽極氧化時使用電化學工作站,不使用參比電極可以么,設置2V

電化學工作站在掃描過程中掃描意外停止是因為有的電化學工作站使用的是變壓器,輸入的電壓低於儀器的保護電壓,儀器和微機的通信就會自動斷開;比如我國的單相公共用電是220V,儀器的使用電壓是±20%,那麼輸入電壓高於264V,低於176V,儀器就會進入自動保護,工作站和微機的通訊就會自動斷而開掃描停止。如果沒有設置自動保護的,工作站和微機是通的,當電壓很低的時候掃描也不會停止,但邏輯數據已經紊亂了纖畝,做出來的圖也沒有意義。當電壓很高或者電流塵脊很大時會燒壞電極或者燒毀儀器,所以儀器沒有設置自動保護裝置是非常危險的。如果進實驗室同一路電源線上有設備使用功率比較大,影響到其他儀器的運行,要考慮使用一個UPS智能高頻在線式交流不間斷毀兄森電源系統,或者改進供電裝置。

『貳』 求陽極氧化產品信息

陽極氧化處理山旅的產品有:MP3,MP4外殼,電腦外殼,音響外殼,感光鼓,等歷槐等
至於地點,我想東莞應該是理想的建廠城逗爛凳市

『叄』 電鍍設備的管理

電鍍所需要的設備主要是整流電源、鍍槽、陽極和電源導線,還有按一定配方配製的鍍液。要使電鍍過程具有科研的或工業的價值,需要對電鍍過程進行控制,也就是要按照一定的工藝流程和工藝要求來進行電鍍,並且還要用到某些輔助設備和管理設備,比如,過濾機、加熱或降溫設備、化驗設備、檢測設備等。 與其他工業技術相比,電鍍技術的設備不僅很簡單,而且有很大的變通性,以電源為例,只要是能夠提供直流電的裝置,就可以拿來做電鍍電源,從電池到直流發電機,從橋堆到硅整流器、從可控硅到開關電源等,都是電鍍可用的電源。其功率大小既可以由被鍍產品的表面積來定,也可以用現有的電源來定每槽可鍍的產品多少。
當然,正式的電鍍加工都會採用比較可靠的硅整流裝置,並且主要的指標是電流值的大小和可調范圍,電壓則由0~18V隨電流變化而變動。根據功率大小而可選用單相或三相輸入,要能防潮和散熱。工業用電鍍電源一般從l00A到幾千安不等,通常也是根據生產能力需要而預先設計確定的,最好是單槽單用,不要一部電源向多個鍍槽供電。如果只在實驗室做試驗,則採用5~1OA的小型實驗整流電源就行了。
1993年我國機械工業部組織專家編制了電鍍用整流設備的標准(JB/T1504-1993),對我國設計和生產的電鍍整流器的型號、規格、技術參數等都作出了相關規定。隨著電力科學技術的進步,在整流電源的設計和製作上已經有很大改進,很多電鍍電源已經向多功能、大功率、小體積等方向發展。自動換向、可調脈沖、平滑調節等都已經是常見的功能。常用的風冷式可控硅整流器的技術規格見表1。 電鍍用的鍍槽包括電鍍生產中各工序的專用槽體。不光只是電鍍槽,還包括前處理用的除油槽、酸洗槽和清洗槽、活化槽,後處理的鈍化槽、熱水槽等。由於電鍍用槽仍然屬於非標准設備,其規格和大小有很大變通空間的設備。小到燒杯,大到水池都可以用來做鍍槽,因為只要能將鍍液裝進去而不流失的裝置,就可以做鍍槽用,就是實際電鍍工業生產中所用的鍍槽也是五花八門,並沒有統一的標准,這種狀況對加強電鍍管理是不利的。
電鍍企業,大體上只按容量來確定其大小,比如,500L、800L、I000L、2000L直至l0000L、20000L的鍍槽都有。而其長寬和高度也由各廠家自己根據所生產的產品的尺寸和車間大小自己來確定,因此,即使是同一種容量的鍍槽,其外形尺寸也不一定是相同的。
至於做鍍槽的材料也是各色各樣的,有用玻璃鋼的,有用硬PVC的,有用鋼板內襯軟PVC的,還有用磚混結構砌成然後襯軟PVC,或在地上挖坑砌成的鍍槽,甚至有用花崗岩鑿成的鍍槽,這中間當然有不少是不規范的做法,但卻是我國電鍍加工業中真實存在的狀況。
隨著外國投資者的進入我國電鍍市場,國外先進的電鍍設備和槽體也開始在我國電鍍企業出現,同時,已經有了不少專業的電鍍設備廠商,電鍍槽的製作水平也越來越高。相信隨著市場經濟改革的進一步深化,電鍍設備製造廠商和行業協會、標准化組織合作將鍍槽容量系列化和標准化,對於電鍍管理將是一個重要的貢獻。同時,生產線的其他部件也採用標准件的形式進行製造,鍍槽零件的停留時間和工藝參數也採用了柔性化控制系統。
至於鍍槽的使用方式,根據電鍍生產的操作方式不同而有所不同。有按手工操作的工藝流程生產線直線排列,在排列中按流程會同時有多個鍍種和各種清洗槽和預處理槽。另一種是按鍍種分別排列,每個鍍種是一條線。還有因地制宜地根據現場空間和鍍槽大小排列,如果是機械自動生產線,則基本上是按工藝流程排列,並且需要有較大的空間以及准備和輔助工作場地。
表2 電鍍生產用槽的工藝指標 鍍槽名稱 溶液性質 工作溫度 可用材料 主輔設備配置 槽體 襯里 加熱管或冷卻管 整流
電源 陰極
移動 循環
過濾 排氣 化學除油 鹼性 70~90 碳鋼 碳鋼 - - - + 電化學除油 鹼性 70~90 碳鋼 碳鋼 + - - - 冷水清洗 中性 室溫 塑料 - - - - 熱水清洗 中性 70~80 碳鋼 碳鋼 - - - - 硫酸酸洗 酸性 室溫~60 碳鋼
塑料 塑料 鋼包塑料等 - - - + 鹽酸酸洗 酸性 室溫 碳鋼
塑料 塑料 - - - + 續表 鍍槽名稱 溶液性質 工作溫度/℃ 可用材料 主輔設備配置 槽體 襯里 加熱管或冷卻管 整流
電源 陰極
移動 循環
過濾 排氣 弱酸活化 酸性 室溫 塑料 - - - - 酸性鍍銅、鎳 酸性 室溫~60 碳鋼
塑料 塑料 鋼包塑料等 + + - +
— 鹼性鍍銅、合金 鹼性 25~65 碳鋼 塑料 不銹鋼等 + + - + 酸性鍍錫 酸性 室溫 塑料 + - + 鹼性鍍錫 鹼性 70~90 碳鋼 塑料 碳鋼 + - + 鍍銀 鹼性 室溫 塑料 + + + + 鍍金 酸或鹼性 室溫~60 塑料 氟塑料玻璃 + - - + 酸性鍍鋅 酸性 室溫 塑料 + - - + 鹼性鍍鋅 鹼性 室溫 碳鋼 塑料 + - - + 光亮鍍鎳 弱酸性 50~60 碳鋼
塑料 塑料 鈦、氟塑料等 + + + - 鍍鉻 酸性 45~70 碳鋼 塑料 鈦、氟塑料等 + - - + 鋼鐵化學鍍鎳 酸性 90~95 陶瓷PP 氟塑料或套槽 - - + - 關於鍍槽的大小,在同一鍍種或生產線,應該採用同一個規格的鍍槽,這樣設計和施工都可以節省資源,則物料和水電的計量管理也方便,同時電鍍現場也整齊美觀。
對於鍍槽的裝載量,可參考表3所列的參數。
表3 電鍍槽的平均裝載量 鍍液類別 每l000mm陰極裝載量/m2 每1OOOL鍍液裝載量/m2 酸性及鹼性電鍍液 0.3~0.6 0.6~1.2 裝飾性鍍鉻、防滲碳鍍銅 0.2~O.3 0.4~0.6 鍍硬鉻 0.15~0.2 0.3~O.4 鋁合金陽極氧化處理 0.3~O.6 0.6~1.2 各種化學處理 0.8~1.5 1.6~3.0

『肆』 鋁及其化合物在生產生活中的應用非常廣泛。鋁合金材料的防腐、含鋁食品或葯品的使用等問題都備受關注。

(1)2Al+3H 2 O-6e - =Al 2 O 3 +6H + ;6H + +6e - =3H 2 ↑;NH 3 ·H 2 O+H + =NH 4 + +H 2 O
(2)該鹼式碳酸脊盯鹽分解生成的水和CO 2 的總質量為9.03g-5.13g=3.9g,n(CO 2 )=0.015mol,m(CO 2 )=0.66g,
m(H 2 O)=3.9g-0.66g=3.24g,n(H 2 O) =0. 18mol。
該鹼櫻漏和式碳酸鹽受熱分解所得到的固體是MgO和Al 2 O 3 的混合物搜做。
n(MgO)=n[Mg(OH) 2 ]=5.22g÷58g/mol=0. 09mol,m(MgO)=3.6g
m(Al 2 O 3 )=5.13g-3.6g=1.53g,n(Al 2 O 3 )=0.015mol
n(MgO):n(Al 2 O 3 ):n(CO 2 ):n(H 2 O)=0.09mol:0. 015mol:0. 015mol:0. 18mol=6:1:1:12,
所以該鹼式碳酸鹽的化學式為Mg 6 Al 2 (OH) 16 CO 3 ·4H 2 O。

『伍』 鋁失電子生成氧化鋁電極反應

(1)鋁的陽極氧化過程中,金屬鋁是陽極,碳棒是陰極,所以a是正極,故答案為:正極;
(2)鋁表面有氧化鋁,氧化鋁是兩性氧化物溶於氫氧化鈉溶液中反應生成四羥基合鋁酸鈉或偏鋁酸鈉,反應的離子方程式為:Al 2 O 3 +2OH - +3H 2 O=2[A1(OH) 4 ] - 或Al 2 O 3 +2OH - =2AlO 2 - +H 2 O,所以氫氧化鈉的作用是:除去鋁表面的油污和氧化膜,故答案為:除去鋁表面的油污和氧化膜;
(3)裝置圖分析鋁接電源正極在電解池中 做陽極失電子生成氧化鋁,電極反應為:2Al+3H 2 O→Al 2 O 3 +6H + +6e - ;溶液中氫離子在陰極得到電子生成氫氣,電極反應為:2H + +2e - =H 2 ↑;故答案為:2Al-6e - +3H 2 O=Al 2 O 3 +6H + ;2H + +2e - =H 2 ↑;
(4)用1%稀氨水中和表面的酸液,是和稀硫酸發生的反應,反應離子方程式為:NH 3 •H 2 O+H + =NH 4 + +H 2 O;
故答案為:NH 3 •H 2 O+H + =NH 4 + +H 2 O.

『陸』 陽極氧化會使零件尺寸變小嗎

陽極氧化會使零件尺寸變小的。

鋁合金的陽極氧化前處理都會經過噴砂, 鹼蝕, 化拋等處理, 多少會讓基材變小;。

此外, 如氧化處理有經過退膜重工, 基材已經變小了, 退膜蝕如使用鹼退膜更加會影響成品尺寸。

陽極都是用鋁或者鋁合金當作陽極,陰極則選取鉛板,把鋁和鉛板一起放春搭芹在水溶液,這裡面有硫酸、草酸、鉻酸等,進行電解,讓鋁和鉛板的表面形成一種氧化膜。

為了克服鋁合金錶面硬度、耐磨損性等方面的缺陷,擴大應用范圍,延長使用壽命,表面處理技術成為鋁合金扒畢使枝顫用中不可缺少的一環,而陽極氧化技術是目前應用最廣且最成功的。

(6)實驗室陽極氧化裝置小擴展閱讀:

陽極氧化與導電氧化的區別:

1、陽極氧化是在通高壓電的情況下進行的,它是一種電化學反應過程;而導電氧化(又叫化學氧化)不需要通電,只需要在葯水裡浸泡就行了,它是一種純化學反應。

2、陽極氧化需要的時間很長,往往要幾十分鍾,而導電氧化只需要短短的幾十秒。

3、陽極氧化生成的膜有幾個微米到幾十個微米,並且堅硬耐磨;導電氧化生成的膜僅僅0.01—0.15微米,耐磨性不是很好,但是既能導電又耐大氣腐蝕,這就是它的優點。

4、氧化膜本來都是不導電的,但因為導電氧化生成的膜實在是很薄,所以就是導電的了。

參考資料:網路-陽極氧化

『柒』 鹽霧測試國家標準是什麼

鹽霧測試國家標準是:GB/T 2423.17,IEC60068-2-11,ISO4628-3, ASTM B117, JIS-Z2371, JIS-G3141, GJB 150.11A-2009, MIL-STD-810F, MIL-STD-883E等。

鹽霧試驗的目的是為了考核產品或金屬材料的耐鹽霧腐蝕質量,而鹽霧試驗結果判定正是對產品質量的宣判,它的判定結果是否正確合理,是正確衡量產品或金屬抗鹽霧腐蝕質量的關鍵。


(7)實驗室陽極氧化裝置小擴展閱讀:

鹽霧試驗的注意事項:

1、供試驗用樣板底材,必須徹底清除銹跡和潤滑油脂。無論是經噴砂、打磨還是磷化過的底材,謹防暴露於潮濕空氣中,以防底材表面形成水膜造成再度生銹或因此而降低塗層與底材間的附著力。

2、鹽霧試驗的關鍵是配製電解質溶液的濃度,多種組分的溶質要按比例嚴格稱量,以確保 pH 值的准確性。不然會直接影響檢測結果。

3、制備塗層後的樣板、件,需用塗料封邊和覆蓋底材裸露部位,否則,造成銹痕流掛、污染板面,會給評定等級工作帶來困難。

4、定期查板、件時,應保持板面呈濕潤狀態,盡量縮短板面暴露於空氣中的時間。

5、完成試驗後,應立即對板面做出客觀評價,包括:起泡、變色、生銹、脫落。也可按客戶要求增加附著力、劃痕單邊銹蝕距離的檢測評定。


『捌』 實驗室用NaOH和FeSO4製取Fe(OH)2時,Fe(OH)2很容易被氧化,若採用如圖所示裝置製取,可以得到較純凈

(1)苯的密度水的小,不溶於水,可隔絕空氣,防止氫氧化亞鐵被氧內化,故答案為:隔絕空容氣防止氫氧化亞鐵被氧化;
(2)此裝置屬於電解池,與正極相連的鐵作陽極,發生氧化反應,電極方程式為Fe-2e-=Fe2+,與負極相連的石墨作陰極,發生還原反應,電極方程式為2H++2e-=H2
故答案為:Fe-2e-=Fe2+;2H++2e-=H2
(2)反接電源時,電解方程式變為2H2O

電解
.

『玖』 高中化學中具體有哪些除雜方法啊拜託各位了 3Q

1. 氣體除雜的原則: (1) 不引入新的雜質 (2) 不減少被凈化氣體的量 2. 氣體的除雜方法: 試劑 除去的氣體雜質 有關方程式 水 易溶於水的氣體,如:HCl、NH3 / 強鹼溶液(NaOH) 酸性氣體,如:CO2、SO2 CO2+2NaOH=Na2CO3+H2O SO2+2NaOH=Na2SO3+H2O 灼熱的銅網 O2 2Cu+O2====2CuO 灼熱的氧化銅 H2、CO CuO+H2===Cu+H2O CuO+CO====Cu+CO2 注意的問題: (1)需凈化的氣體中含有多種雜質時,除雜順序:一般先除去酸性氣體,如:氯化氫氣體,CO2、SO2等,水蒸氣要在最後除去。 (2)除雜選用方法時要保證雜質完全除掉,如:除CO2最好用NaOH不用Ca(OH)2溶液,因為Ca(OH)2是微溶物,石灰水中Ca(OH)2濃度小,吸收CO2不易完全。 (3)除雜裝置與氣體乾燥相同。 典型例題 1. 填寫實驗報告 實驗內容 選用試劑或方法 反應的化學方程式或結論 鑒別H2和CO2 除去稀鹽酸中混有的少量硫酸 考點:物質的鑒別,物質的除雜問題。 (1)H2、CO2的化學性質。 (2)SO42-的特性。 評析:①利用H2、CO2的性質不同,加以鑒別。 如H2有還原性而CO2沒有,將氣體分別通入灼熱的CuO加以鑒別。 CuO+H2 Cu+H2O 或利用H2有可燃性而CO2不燃燒也不支持燃燒,將氣體分別點燃加以鑒別。 或利用CO2的水溶液顯酸性而H2難溶於水,將氣體分別通入紫色石蕊試液加以鑒別。CO2使紫色石蕊試液變紅而H2不能。 ②屬於除雜質問題,加入試劑或選用方法要符合三個原則:(1)試劑與雜質反應,且使雜質轉化為難溶物質或氣體而分離掉;(2)在除雜質過程中原物質的質量不減少;(3)不能引入新雜質。 在混合物中加入BaCl2,與H2SO4生成白色沉澱,過濾後將其除去,同時生成物是HCl,沒有引入新的離子。 答案: 澄清石灰水 Ca(OH)2+CO2=CaCO3↓+H2O 氯化鋇溶液 H2SO4+BaCl2=BaSO4↓+2HCl 2.下列各選項中的雜質,欲用括弧內物質除去,其中能達到目的的是( ) A CO中混有少量CO2 (澄清石灰水) B CO2中混有少量氯化氫氣體 (NaOH溶液) C O2中混有少量H2 (灼熱氧化銅) D N2中混有少量O2 (白磷) 分析: A 澄清石灰水能吸收CO2,不能吸收CO ,可到達目的. B CO2與HCl都和NaOH反應,故不能達到目的. C O2和H2 混合二者體積比不知道,通過灼熱氧化銅可能爆炸,不能達到目的. D 白磷自燃且生成物為固體,除去O2,能達到目的. 回答除雜問題,一定要全面分析,既要除去雜質,又要使主要成分(被凈化的氣體)不變質。 答案: A D 3.實驗室配製氯化鈉溶液,但氯化鈉晶體里混入了少量硫酸鈉和碳酸氫銨,設計一組實驗,配製不含雜質的氯化鈉溶液。 提示:本題為除雜問題的實驗設計,這樣的問題一般要遵循「甲中有乙,加丙去乙,可產生甲,但不能產生丁」的原則。 答案:將不純的氯化鈉晶體溶於適量的蒸餾水中,滴加稍過量的Ba(OH)2溶液,使SO42-及CO32-(原HCO3-與OH-反應後生成)完全沉澱。再續加稍過量的Na2CO3溶液,以除去過量的Ba2+。過濾,保留濾液在濾液中,滴加稀鹽酸至溶液呈中性(用PH試紙控制),得不含雜質的氯化鈉溶液。 分析:為了除去雜質NH4HCO3和Na2SO4,一般可提出兩個實驗方案:第一方案是利用NH4HCO3受熱(35℃以上)易分解成氣態物質的特性,先加熱氯化鈉晶體除掉NH4HCO3,再加Ba2+除掉SO42-;第二方案是用Ba(OH)2同時除掉兩種雜質,這種方法簡便,「一舉兩得」,故優先選用。 具體操作步驟如下:①將不純的氯化鈉晶體溶於適量的蒸餾水中,滴加稍過量的Ba(OH)2溶液,使 SO42-及CO32-(原HCO3-與OH-反應後生成)完全沉澱。 檢驗Ba(OH)2是否過量的方法:取少量濾液,滴幾滴Na2SO4或稀H2SO4,如產生白色渾濁或沉澱,則表示Ba(OH)2已過量。 ②再續加稍過量的Na2CO3溶液,以除去過量的Ba2+離子。過濾,保留濾液。 檢驗Na2CO3是否過量的方法,取少量濾液,滴加幾滴HCl,如產生氣泡則表示Na2CO3已過量。 ③在②之濾液中,滴加稀HCl至溶液呈中性(用PH試紙控制),就可得純氯化鈉溶液。 4、工業上制備純凈的氯化鋅時,將含雜質的氧化鋅溶於過量的鹽酸,為了除去氯化鐵雜質需調節溶液的PH值到4,應加入試劑是 A.氫氧化鈉 B.氨水 C.氧化鋅 D.氯化鋅 E.碳酸鋅 正確答案:CE 解釋:本題為除雜題,原理是降低溶液中的[H+],將Fe3+轉化為Fe[OH]3以除去,所以應加入鹼性物質,A、B、C、E均可滿足條件,但除雜的原則是不能引進新雜質,所以A、B排除,選出正確答案。 5、海水是取之不盡的化工原料資源,從海水中可提取各種化工原料。下圖是工業上對海水的幾項綜合利用的示意圖: 試回答下列問題: ①粗鹽中含有Ca2+、Mg2+、SO42-等雜質,精製時所用試劑為:A 鹽酸;B BaCl2溶液;C NaOH溶液;D Na2CO3溶液。加入試劑的順序是 ②電解飽和食鹽水時,與電源正極相連的電極上發生的反應為 與電源負極線連的電極附近溶液pH (變大、不變、變小)。若1mol電子的電量為96500C,則用電流強度為100A的穩恆電流持續電解3分13秒,則在兩極上共可收集到氣體 mL(S.T.P)。若保證電解後飽和食鹽水的濃度不變,則可採取的方法是 ③由MgCl2·6H2O晶體脫水制無水MgCl2時,MgCl2·6H2O晶體在 氣氛中加熱脫水,該氣體的作用是 ④電解無水MgCl2所得的鎂蒸氣可以在下列 氣體中冷卻。 A H2 B N2 C CO2 D O2 【參考答案】 ①B C D A或C B D A 該小題屬離子除雜題。除雜原則是在除去Ca2+、Mg2+、SO42-時,不能帶入雜質離子。所以,解此題的關鍵是把握好加入離子的順序:①Ba2+必須在CO32-之前加入;②CO32-、OH-必須在H+之前加入,所以B、C不分先後,而D、A本身既分前後,又必須放在B、C之後才能滿足條件。 ②2Cl--2e→Cl2 變大 4480 措施是向電解液中通入一定量的HCl氣體 電解飽和食鹽水時,與正極相連的陽極發生的反應是2Cl--2e→Cl2,與負極相連的陰極發生的反應是:2H++2e→H2。H+不斷消耗,使得溶液中[OH-]增大,pH變大。電解中外溢的是Cl2、H2,所以要確保原溶液濃度不變,只能向體系中通入一定量的HCl氣體以補足損失的H、Cl原子。易錯處是加入鹽酸,使溶液濃度變小。 ③HCl 抑制水解平衡MgCl2+H2O Mg(OH)Cl+HCl正向進行 ④A 6、實驗室用純凈、乾燥的氫氣還原氧化銅,實驗裝置有下列A、B、C、D四部分組成,回答下列問題: (1)根據上述實驗要求,將各實驗裝置按從左到右的順序用序號連接起來:( )→()→()→() (2) 指出A、B裝置在實驗中的作用: A B (3)實驗完畢後,加熱和通入氫氣同時停止,等試管冷卻後得到固體的質量與理論上所得銅的質量相比較,將會----------(偏大、偏小或不變) 分析:裝置的排列從左到右順序一般是:(1)氣體的發生裝置(2)氣體的除雜裝置氣體的乾燥裝置(4)主要實驗裝置(5)尾氣的處理(氣體無毒可直接放出) 答案:(1)D→A→B→C (2)A:吸收可能存在的HCl氣體 B:吸收水得到乾燥的氫氣 (3)偏大參考資料: http://blog.sina.com.cn/s/blog_4cdf9d3a0100096x.html 分享給你的朋友吧: 人人網 新浪微博 開心網 MSN QQ空間 對我有幫助 10

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