鍍膜系統的傳動裝置

1. pecvd鍍膜每個步驟的作用

PECVD 系統是一組利用平行尺沖板鍍膜舟和高頻等離子激發器的系列發生器。在低壓和升溫的情況下，等離子發生器直接裝在鍍膜板中間發生反應。所用的活性氣體為硅烷SiH4和氨NH3。這些氣體作用於存儲在矽片上的氮化硅。可以根據改變硅烷對氨氣的比率，來得到不同的折射指數。在沉積工藝中，伴有大量的氫原子和氫離子的產生，使得晶片的氫鈍化性十分良好。

在真空、480攝氏度的環境溫度下，通過對石墨舟的導電，使矽片的表面鍍上一層SixNy。

3SiH4+4NH3 → Si3N4+12H2。

鍍膜原理：

光照射在矽片表面時，反射會使光損失約三分之一。如果在硅表面有一層或多層合適的薄膜，利用薄膜干涉原理，可以使光的首猛反射大為減少，這種膜稱為太陽電池的減反射膜(ARC，antireflection coating)。

管式PECVD的原理就是通過脈沖射頻激發受熱的稀薄氣體進行輝光放電形成等離陵芹殲子體，通過兩片相對應的石墨片加相反的交變電壓使等離子在極板間加速撞擊氣體，運動到矽片表面完成鍍膜過程。

2. 鍍膜機由哪幾大系統組成，各系統的組成部分和作用分別是什麼

由執行元件、測量元件和控制元件三部分組成。
執行元件用於改變被控量，如電機作梁指為執行元件可以改變機械臂的角度；
測量元件用於測量被控量，如採用旋轉變壓器或者碼盤等角位置測量元件可以檢測機械臂的轉角；
控制元件用於實現閉環控制，改善被控系統性橡賀配能，一般採用模擬電路、DSP、PLC或者計算機等部件實現，可以校正被控對象，改變系統開環傳遞函數拍雹，使閉環系統滿足一定的性能指標要求。

3. 光馳真空鍍膜機都是用擴散泵嗎

光馳真空鍍膜機都是用擴散泵。擴散泵祥搭是真空鍍膜機抽氣系統其中的一個泵,用擴散泵抽真友陵空,必須要有機謹告拿械泵協助,而且還需要羅茨泵先抽低真空才行。

4. 真空鍍膜機的結構原理

一悉茄、電控櫃的操作 1. 開水泵、氣源 2. 開總電源 3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小於10後，再進入下一步操作。約需5分鍾。 4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計模陸襲開關換到V2位置，抽到小於2為止，約需20分鍾。 5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以後，關予抽，開前機和高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度後才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以後才能開電子槍電源。 二、DEF-6B電子槍電源櫃的操作 1. 總電源 2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鍾後延時及保護燈滅，若後門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。 3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。 三、關機順序 1. 關高真空表頭、關分子泵。 2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鍾。 3. 到50以下時，再關維旦兄持泵。

5. 真空鍍膜原理是什麼

真空鍍膜原理：

1、物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。

2、化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，藉助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

(5)鍍膜系統的傳動裝置擴展閱讀：

真空鍍膜設備適用范圍：

1、建築五金：衛浴五金（如水龍則橡頭）旦盯冊、門鎖、門拉手、衛浴、門鎖、五金合葉、傢具等。

2、製表業：可用於表殼、表帶的鍍膜、水晶製品。

3、其它小五金：皮革五金、不銹鋼餐具、眼鏡框、刀具、模具等。

4、大型工件：汽車輪轂、不銹鋼板、招牌、雕塑等。

5、不模宏銹鋼管和板（各種類型表面）。

6、傢具、燈具、賓館用具。

7、鎖具、拉手、衛浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器血等五金製品鍍超硬裝飾膜。

8、手錶、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾（金銀）納米膜和納米膜和納米疊層膜。

6. 真空鍍膜機如何調試

1主要包括水、電、氣.主要有冷卻系統、濺射系統、測量系統、傳動系統、抽空系統、工藝氣體等等.
2接好水電氣.人為報警測試、過載、互鎖、保護、過溫、加熱、停轉、絕緣、....
3抽真空測抽速，檢漏；測極限，保壓啊.
4實驗打樣OK,投入生產.

7. 玻璃鍍膜機的介紹

玻璃鍍膜機，在架體上部設有作為動力源的電機減速器，包括導軌、滾珠絲杠、滑座、滾輪及螺母，滾珠絲杠一端與電機減速器相連接，另一端插在架體底部的軸承座內，滑座通過螺母連接在滾珠絲杠上，滑座上設有滾輪，導軌固裝在架體上，滾輪配合連接在導軌上，滑座上設有安裝底座，其內部開有通孔，帶有滾輪的滾輪支座插在安裝底座通孔的一端，調整螺母螺紋連接在安裝底座通孔的另一端，在滾輪支座與調整螺母之間設有彈性體，保險頂絲穿過調整螺母插在安裝底座的通孔內。本實用新型採用滾珠絲杠傳動，使玻璃在鍍膜時傳動平穩，保證了滾珠絲杠的傳動平穩，使玻璃的鍍膜沒有衍涉波紋。

8. 真空鍍膜機的詳細結構

高真空鍍膜機，鍍膜機是目前製作真空條件應用最為廣泛的設備。其相關組成及各部件：機械泵、增壓泵、油擴散泵、冷凝泵、真空測量系統.
下面本人詳細介紹各部分的組成及工作原理。

一、真空主體——真空腔

根據加工產品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應用最多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔體由不銹鋼材料製作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。

二、輔助抽氣系統

此排氣系統採用「擴散泵+機械泵＋羅茨泵＋低溫冷阱＋polycold」組成

排氣流程為：機械泵先將真空腔抽至小於2.0*10-2PA左右的低真空狀態，為擴散泵後繼抽真空提供前提，之後當擴散泵抽真空腔的時候，機械泵又配合油擴散泵組成串聯，以這樣的方式完成抽氣動作。

排氣系統為鍍膜機真空系統的重要部分，主要有由機械泵、增壓泵（主要介紹羅茨泵）、油擴散泵三大部分組成。

機械泵：也叫前級泵，機械泵是應用最廣泛的一種低真空泵，它是用油來保持密封效果並依靠機械的方法不斷的改變泵內吸氣空腔的體積，使被抽容器內氣體的體積不斷膨脹從而獲得真空。

機械泵有很多種，常用的有滑閥式（此主要應用於大型設備）、活塞往復式、定片式和旋片式（此目前應用最廣泛，本文主要介紹）四種類型。

機械泵常常被用來抽除乾燥的空氣，但不能抽除含氧量過高、有爆炸性和腐蝕性的氣體，機械泵一般被用來抽除永久性的氣體，但是對水氣沒有好的效果，所以它不能抽除水氣。旋片泵中起主要作用的部件是定子、轉子、彈片等，轉子在定子裡面但與定子不同心軸，象兩個內切圓，轉子槽內裝有兩片彈片，兩彈片中間裝有彈簧，保證了彈片緊緊貼在定子的內壁。

它的兩個彈片交替起著兩方面的作用，一方面從進氣口吸進氣體，另一方面壓縮已經吸進的氣體，將氣體排出泵外。轉子每旋轉一周，泵完成兩次吸氣和兩次排氣。當泵連續順時針轉動時，旋片泵不斷的通過進氣口吸入氣體，又從排氣口不斷的排出泵外，實現對容器抽氣的目的。為了提高泵的極限真空度，均將泵的定子浸在油裡面這樣，在各處的間隙中及有害空間裡面經常保持足夠的油，把空隙填滿，所以油一方面起到了潤滑作用，另一方面又起了密封和堵塞縫隙及有害空間的作用，防止氣體分子通過各種渠道反流到壓強低的空間去。

機械泵是從大氣開始工作的，它的主要參數有極限真空，抽氣速率，此為設計與選用機械泵的重要依據。單級泵可以將容器從大氣抽到1.0*10-1PA的極限真空，雙級機械泵可以將容器從大氣抽到6.7*10-2帕，甚至更高。

抽氣速率，是指旋片泵按額定轉數運轉時，單位時間內所能排出氣體的體積，可以用下公式計算：

Sth=2nVs=2nfsL

fs表示吸氣結束時空腔截面積，L表示空腔長度，系數表示轉子每旋轉一周有兩次排氣過程，Vs表示當轉子處於水平位置的時候，吸氣結束，此時空腔內的體積最大，轉速為n。

機械泵排氣的效果還與電機的轉速及皮帶的松緊度有關系，當電機的皮帶比較松，電機轉速很慢的時候，機械泵的排氣效果也會變差，所以要經常保養，點檢，機械泵油的密封效果也需要常常點檢，油過少，達不到密封效果，泵內會漏氣，油過多，把吸氣孔堵塞，無法吸氣和排氣，一般，在油位在線下0.5厘米即可。

增壓泵又叫羅茨泵：它是具有一對同步高速旋轉的雙葉形或多葉形轉子的機械泵，由於它的工作原理與羅茨鼓風機相同，所以又可以叫羅茨真空泵，此泵在100-1帕壓強范圍內有較大的抽氣速度，它彌補了機械泵在此范圍內排氣能力不足的缺點，此泵不能從大氣開始工作，也不能直接排出大氣，它的作用僅僅是增加進氣口和排氣口之間的壓差，其餘的則需要機械泵來完成，因此，它必須配以機械泵作為前級泵。
機械泵在使用過程中，必須注意以下問題：

1、機械泵要安裝在清潔乾燥的地方。

2、泵本身要保持清潔乾燥，泵內的油具有密封和潤滑作用，因此要按照規定量添加。

3、要定期更換泵油，更換的時候要先排出以前的廢油，周期為至少三個月至半年更換一次。

4、要按照說明書接好電線。

5、機械泵停止工作前要先關閉進氣閥門，再停電並開放氣閥，將大氣通過進氣口放入泵中。

6、泵在工作期間，油溫不可以超過75攝氏度，否則會由於油的黏度過小而導緻密封不嚴。

7、要不定期檢點機械泵的皮帶松緊度、電機的轉速，羅茨泵電機的轉速，和密封圈的密封效果。

油擴散泵：機械泵的極限真空只有10-2帕，當達到10-1帕的時候，實際抽速只有理論的1/10，如果要獲得高真空的話，必須採用油擴散泵。

由於油擴散泵是最早用來獲得高真空的泵，其由於造價便宜，維護方便，使用廣泛，所以本文將重點討論。

油擴散泵的應用壓強范圍是10-1帕-10-7帕，它是利用氣體的擴散現象來排氣的，它具有結構簡單，操作方便，抽速大（最高可以達到10+5升/秒）等特點。油擴散泵主要由泵殼、噴嘴、導流管和加熱器組成，裡面主要添加擴散泵油（日本的型號是D-704#），根據噴嘴的多少可以分為單級泵和多級泵。

擴散泵底部內儲存有擴散泵油，上部為進氣口，右側旁下部為出氣口，在工作時出氣口由機械泵提供前置壓強，機械泵充當前置泵。

當擴散泵的油被電爐加熱時，產生的油蒸汽提供前置壓強，機械泵充當前置泵。當擴散泵油被電爐加熱時，產生的油蒸汽沿著導流管經傘形噴嘴向下噴出。因噴嘴外面有機械泵提供的1-10-1帕的真空，故油蒸汽可噴出一段距離，構成一個向出氣口方向運動的射流。射流最後碰上由冷卻水冷卻的泵壁，凝結為液體，流回蒸發器，即靠油的蒸發——噴射——凝結，重復循環來實現抽氣的。

由進氣口進入泵內的氣體分子，一旦落入蒸汽流中，便獲得向下運動的動量，向下飛去，由於射流具有高的流速（約200米/秒），高的蒸汽密度，且擴散泵油具有高的分子量（300-500）故能有效的帶走氣體分子，因此在射流的界面內，氣體分子不可能長期滯留，且在射流界面的兩邊，被抽氣體有很大的濃度差，正是因為這個濃度差被抽氣體能不斷的越過界面，擴散進入射流中，被帶往出口處，在出口處再由機械泵抽走。

擴散泵的油蒸汽壓是決定泵的極限真空的重要因素，因此盡量選用飽和蒸汽壓低的泵油，其化學特性要好。

擴散泵不能單獨用來抽氣，一般要求泵的最大出口壓強為40帕。擴散泵的抽速決定於第一級噴嘴與泵體進氣口口徑間環形面積的大小，抽速不是一恆定的值，而是隨著進氣口的壓強而變化的，當壓強在10-2～10-3帕的時候，擴散泵的抽氣速度是最快的，當壓強小於5*10-4帕之後，擴散泵的抽氣速度最小，幾乎沒有抽氣能力（此時，進氣口的壓強較高，由於空氣的密度較大，使蒸汽流形成不了高速射流以阻擋空氣的反擴散，所以抽速下降）。

擴散泵在安裝前要清洗，之後才可以裝入擴散油，油在加熱前，必須要先對泵抽真空，停機前要先將擴散泵油冷卻到60～70攝氏度，才可以關閉前級抽氣，最後關冷卻水。

由於油擴散泵是無法杜絕有返油的幾率，那麼沒有辦法保證精密產品的100％純凈，特別是半導體行業，所以就有「高真空冷凝泵＋低真空機械泵」所組成的無油真空系統，冷凝泵組成的排氣系統不僅排氣效率極高，而且有效保證真空腔的清潔，保證產品的質量（避免產品被污染、增強膜層與基板之間的附著力），但是其維護成本非常的高，造價昂貴，所以普及率沒有油擴散泵廣泛。

本人在工作過程中，有幸使用到採用冷凝泵組成的排氣系統，故在此解釋。

低溫冷凝泵：它是利用低溫表面來凝聚氣體分子以實現抽氣的一種泵，是目前獲得極限真空最高，抽速最大的抽氣泵。

冷凝泵的工作原理：主要是低溫表面對氣體的冷凝作用、冷捕作用及物理低溫吸附作用。

低溫冷凝：根據各種氣體的特性，採用液氦或者製冷循環氦氣來冷卻。

冷捕集：就是不可凝氣體被可凝氣體捕集的現象，通常二氧化碳、水蒸氣、氮氣、壓氣等氣體首先形成霜，於低溫表面形成吸附層，進而達到吸附其它氣體的目的，低溫泵抽除混合氣體的效果比抽除單一效果好就是這個原因。

低溫吸附：指低溫表面上的吸附劑吸附氣體的作用，由於吸附劑與氣體分子之間的相互作用很強，故可達到氣相壓強比冷凝表面溫度下它的飽和蒸汽壓還低的水平。吸附劑通常是活性炭。

冷凝泵的抽氣速率及影響 冷凝泵的抽氣速率與冷凝表面的面積大小有關系，經數據顯示，單位冷凝表面積下的抽氣速率為11.6升/秒.平方厘米，冷凝泵可以抽到10-8帕；此外粘有活性炭的吸附表面的幾何形狀及位置、活性炭的顆粒結構、粘結材料及粘接工藝，對抽速也有很大的影響。其次關鍵在於製冷機的製冷量要足夠大。

真空計：真空計是真空鍍膜機器上的重要組成部分，它是檢測鍍膜機真空度的重要手段。真空計根據其工作原理可以分為絕對真空計和相對真空計，絕對真空計可以直接測量壓強的高低，相對真空計只能間接測量真空度。

本論文重點介紹鍍膜機器上面常用到的以下幾個真空計：

電阻真空計（又叫皮喇尼真空計）：

它主要由電熱絲、外殼和支架構成，主要是根據在低壓下，氣體的熱傳導系數與壓強成正比的方式工作的。上面開口處與被測真空系統相連接，熱絲採用電阻溫度系數大的金屬絲做成，兩支支架引線與測量線路連接。當壓強降低的時候，由於氣體熱傳導散失的熱量減小，因此當熱絲加熱電流穩定時候，則熱絲溫度就上升，熱絲的電阻就增大，用測量熱絲電阻值的大小來間接測量壓強，有以下關系：

略 這就是電阻真空計的工作原理，此真空計的測量范圍是：100-10-1帕之間，目前採用的型號是WP-02

磁控放電真空計：

工作原理：在放電開始時，由於空間游離電子向陽極運動時，在正交電磁場作用下，電子的軌跡不是直線而是螺旋線前進，又因為陽極是框形，故電子不一定第一次就碰上陽極，而是穿過陽極，然後受到對面陰極的拒斥，又復返回。這樣反復多次才可能打上陽極。由於電子路程大大加長，故碰撞及電離的分子數增加，使得在較低壓強（10-4帕以下）仍維持放電（也稱潘寧放電）。
目前比較多的型號有PKR251、GI-PARY

放電管真空計：在玻璃管中封入兩個金屬電極，在其上加上數千伏的直流高電壓，在一定的壓強范圍內（1*10-3～2*10托）內就能引起自持放電，通過放電顏色來判定其真空度

目前為止此種真空計已經很少使用，因為其誤差大，容易損壞，而且壽命不長。

三、蒸發系統

蒸發系統主要指成膜裝置部分，鍍膜機器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式，鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發兩種方式作介紹，因為此兩種方式我應用的比較多。

電阻蒸發根據其結構和工作原理是目前為止應用最多，最廣泛的蒸發方式，也是應用時間最長的蒸發方式。它的工作方式是，將鎢片做成船狀，然後安裝在兩個電極中間，在鎢舟中央加上葯材，再緩緩給電極通電，電流通過鎢舟，鎢舟通電發熱，這些低電壓，大電流使高熔點的鎢舟產生熱量，再熱傳導給鍍膜材料，當鎢舟的熱量高於鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發了，此方法由於操作方便，結構簡單，成本低廉，故被很多設備應用，但是其蒸發出來的薄膜由於緻密性不佳，加上很多材料無法採用這種方式蒸鍍，所以其有一定局限性。鎢舟蒸發鍍膜材料的時候，材料的熔點必須小於鎢舟的熔點，否則就沒有辦法進行。

電子槍蒸發是到目前為止應用最多的一種蒸發方式，它可以蒸發任何一種鍍膜材料，它的工作方式是：將鍍膜材料放在坩堝裡面，將蒸發源製作成燈絲形狀，採用一專門的控制櫃，對燈絲加一強電流，高電壓，由於燈絲的材料是鎢，所以它會發熱，到最後會發射電子，再採用一定的磁場將其聚集成一定形狀，並牽引到坩堝上，這樣就形成了一股電子束，由於電子束溫度非常高，可以熔化任何鍍膜葯材，當鍍膜葯材被電子束熔化後（有些材料是直接升華），葯材的分子（原子或者離子）在真空中成直線運動，然後遇到基板，就凝結下來，經過這種方式生長，形成薄膜！最常用的有將電子束的偏轉角製作成270度，、或者運行軌跡為e型的e行電子槍或者電子束偏轉角180度，運行軌跡為c型的c型電子槍兩種。

電子束蒸發的最大優點在於：電子束的光斑可以隨意調整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發任意鍍膜材料，維修方便，蒸發速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。

濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產品表面凝聚形成薄膜。

用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子槍一樣節約資源。

目前運用最多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行於陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作最簡單的一種，所以運用非常廣。

四、成膜控制系統

薄膜監控目前應用方式比較多，主要有：目視監控法，定（極值）值監控、水晶振盪監控、時間監控等等。本人主要介紹目視監控、定（極值）監控和水晶振盪監控三種。

目視監控也叫直接監控，就是採用眼睛監控，因為薄膜在生長的過程中，由於干涉現象會有顏色變化，我們就是根據顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很准確，需要依靠經驗。

定值（極值）監控：主要是採用反射式（透過式）光學監控。極值監控法：當膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當反射率或穿透率走到極值點的時候，就可以知道鍍膜之光學厚度ND是監控波長（入）的四分之一的整數倍。但是極值的方法誤差比較大，因為當反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。

定值監控法：此方法利用停鍍點不在監控波長四分之一波位，然後由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率（或者穿透率）是多少，此即為停止鍍膜點。

水晶振盪監控：

水晶振盪的工作原理是：利用石英晶體振動頻率與其質量成反比的原理工作的。但是石英監控有一個不好之處就是當膜厚增加到一定厚度後，振動頻率不全然由於石英本身的特性使厚度與頻率之間有線性關系，此時必須使用新的石英振盪片。

幾種監控方法各有優劣，但通常鍍多層膜，會以光學監控為主，石英晶體振盪為輔助的方法。

除此之外，對於有些在鍍膜過程中需要充入氣體的還有流量控制計或者壓力控制計，這些需要採用精密的閥門和光電感測系統來控制。

在鍍膜過程中還需要回轉控制系統，就是將傘具的主軸置於軸承裡面，然後再利用電機帶動軸承，使傘具回轉。然後再PLC控制其回轉速度。

坩堝回轉採用電機帶動，光電感應計數的方法，遮葯板採用氣動開關方式轉動。

為了加快抽氣速率，達到一定的真空度，還需要對真空腔進行製冷，就是將真空腔裡面的空氣冷凍到零下130攝氏度，將真空腔裡面的水氣冷凍並被泵抽走。

電氣控制部分主要採用PLC自動控制，就是先在PLC中輸入預先設計好的程序，處理器主電路與操作面板上的各空駛系統相連接，當按下操作面板上的開關的時候，信息傳遞到中央處理器，再由中央控制系統分析並發出指令由支路執行並完成動作。

鍍膜機是集多門學科的設備，它集成了當今工業最先進的機電技術，控制技術、電氣自動化、IT技術、製冷技術，微電路集成系統、高壓控制系統、機械技術、加工技術、光電技術、光學技術、氣動控制技術、光電感測技術、通訊技術、真空技術、薄膜光學與鍍膜技術等等。

可以說鍍膜機是新興的產業代表。

到今天，鍍膜機已經被廣泛應用，制鍍薄膜尤其廣泛，其製作的各種薄膜被應用到各光電系統及光學儀器中，如數碼相機、數碼攝像機、望遠鏡、投影機、能量控制、光通訊、顯示技術、干涉儀、人造衛星飛彈、半導體激光、微機電系統、信息工業、激光的製作、各種濾光片、照明工業、感測器、建築玻璃、汽車工業、裝飾品、錢幣、眼鏡片等等，鍍膜機器已經與人類的生活緊密聯系。

一台進口鍍膜機造價通常達到300～1000萬人民幣，國產設備目前的造價也在100萬左右，進口設備已經完全自動化，整個生產過程都由計算機自動完成，其先進程度絕對優於世界上任何自動化作業模式，由於國內的真空技術起步較晚，加上技術有限，故到目前為止還採用人工操作模式，有些廠商有借鑒進口設備的運作模式，可以達到半自動化作業模式，比如：成都的南光鍍膜機器、廣東的騰勝鍍膜機、台灣的龍翩鍍膜機、北儀真空、沈陽真空等在業界皆有名次。

9. 真空鍍膜設備的相關書籍

《真空鍍膜設備》詳細介紹了真空鍍膜設備的設計方法與鍍膜設備各機構元件的設計計算、設計參數的選擇，其中重點、系統地介紹了磁控濺射靶的設計計算和濺射鍍膜的膜厚均勻性設計。全書共分13章，主要講解真空鍍膜室結構、鍍膜室工件架、真空鍍膜機的加熱與測溫裝置、真空鍍膜機的抽氣系統、真空室電和運動的導入結構、濺射鍍膜設備的充布氣系統、蒸發源、磁控濺射靶、濺射鍍膜的膜厚均勻性等方面的設計與計算。
《真空鍍膜設備》有很強的實用性，適合真空鍍膜設備的設計製造、真空鍍膜設備的應用等與真空鍍膜技術有關的行業從事設計、設備操作與維護的技術人員使用，還可用作高等院校相關專業師生的教材及參考書。 1 真空鍍膜設備設計概述
2 真空鍍膜室結構設計計算
2.1 基本設計原則
2.1 2鍍膜室的材料選擇與焊接要求
2.2.1 材料選擇
2.2.2 焊接要求
2.3 鍍膜室壁厚的計算
2.3.1 鍍膜室的計算壁厚
2.3.2 鍍膜室的實際壁厚與壁厚附加量
2.3.3 鍍膜室的最小壁厚
2.4 圓筒形鍍膜室殼體的設計計算
2.4.1 圓筒形鍍膜室基本設計參數
2.4.2 圓筒形鍍膜室的強度(壁厚)計算
2.4.3 外壓圓筒加強圈的設計
2.4.4 簡體加工允許偏差
2.4.5 鍍膜室封頭的壁厚計算
2.5 圓錐形殼體的設計
2.6 盒形殼體設計
2.7 壓力試驗
2.8 真空鍍膜室門設計
2.9 真空鍍膜室的冷卻
3 鍍膜室升降機構的設計
3.1 立式鍍膜機真空室的升降機構
3.1.1 機械升降機構
3.1.2 液壓升降機構
3.1.3 氣動液壓相結合的升降機構
3.2 真空室的復位
4 鍍膜室工件架的設計
4.1 常用工件架
4.1.1 球面行星傳動工件架
4.1.2 摩擦傳動工件架
4.1.3 齒輪傳動工件架
4.1.4 撥桿傳動工件架
4.2 工件架的轉速
5 真空鍍膜機的加熱與測溫裝置
5.1 加熱方式及其裝置
5.2 測溫方式與裝置
5.3 真空室內引線設計
6 真空鍍膜機的擋板機構
7 真空鍍膜機的抽氣系統設計
7.1 鍍膜設備用真空系統
7.1.1 普通鍍膜設備用典型高真空系統
7.1.2 超高真空系統
7.2 真空鍍膜機抽氣系統的設計
7.2.1 真空鍍膜設備對抽氣系統的要求
7.2.2 鍍膜機抽氣系統的放氣量計算
7.2.3 真空泵的選擇
8 真空室內電和運動的導人導出結構設計
8.1 電導人導出結構設計
8.1.1 電導入導出結構設計要求
8.1.2 電導入導出部件的結構形式
8.2 運動導入導出結構設計
8.2.1 常規轉軸動密封導入導出結構
8.2.2 磁流體動密封運動導入導出結構
8.2.3 金屬波紋管密封柔性運動導入導出結構
8.2.4 磁力驅動動密封運動導入導出結構
9 充布氣系統設計
9.1 充布氣系統設計原則
9.2 充布氣系統結構設計
9.2.1 充布氣系統類型及結構
9.2.2 布氣管路結構形式
9.2.3 充布氣管路分析計算
9.3 充氣控制方式設計
9.3.1 封閉式氣壓穩定充氣控制
9.3.2 質量流量控制器充氣控制
9.4 真空室內充大氣時間計算
10 電磁屏蔽結構設計
10.1 真空鍍膜設備屏蔽概述
10.2 電磁輻射屏蔽設計
11 蒸發源的設計計算
11.1 電阻加熱式蒸發源的熱計算
11.2 e型槍蒸發源的設計計算
11.2.1 燈絲參數計算
11.2.2 磁偏轉線圈及燈絲位置的確定
11.2.3 膜材蒸發時所需熱量
11.2.4 e型槍蒸發源的水冷卻
11.2.5 e型槍蒸發源的電源
11.2.6 多槍蒸發源的設計安裝
11.3 感應加熱式蒸發源的結構設計
11.3.1 坩堝設計
11.3.2 電源及其頻率的選擇
11.4 蒸發源的蒸發特性及膜厚分布
11.4.1 點蒸發源的膜厚分布
11.4.2 小平面蒸發源膜厚分布
11.4.3 環形蒸發源
11.4.4 矩形平面蒸發源
11.4.5 蒸發源與基片的相對位置
12 磁控濺射靶的設計
12.1 靶磁場的設計原則
12.1.1 磁場強度的選擇
12.1.2 磁場均勻性：
12.1.3 矩形靶彎道磁場設計
12.1.4 磁場設計改進方法
12.2 磁控靶的磁場設計計算
12.2.1 三維直角坐標系中的靶磁場
12.2.2 矩形平面磁控濺射靶的磁場
12.2.3 圓形平面磁控濺射靶的磁場計算
12.2.4 同軸圓柱磁環濺射靶的磁場計算
12.2.5 同軸圓柱條形磁體濺射靶的磁場計算
12.2.6 S槍濺射靶的磁場計算
12.3 平面磁控靶結構改進
12.3.1 運動磁場的靶結構
12.3.2 雙環組合磁極靶結構
12.3.3 組合磁場靶結構
12.3.4 磁場分流靶結構
12.3.5 其他磁體形式的靶結構
12.4 永磁體及導磁片設計
12.4.1 永磁體材料
12.4.2 導磁墊片
12.5 陽極與屏蔽罩的設計
12.5.1 陽極設計
12.5.2 屏蔽罩設計
12.6 濺射靶水冷系統的設計與計算
12.6.1 冷卻水流速率的計算
12.6.2 冷卻水管內徑的計算
12.6.3 冷卻水管長度
12.7 靶材的設計選擇
12.7.1 靶材的種類
12.7.2 靶材的選用原則
12.7.3 對靶材的技術要求
12.7.4 靶材與陰極背板的連接
12.7.5 常用靶材
12.8 磁控濺射靶設計方法
12.8.1 靶設計分析方法
12.8.2 磁控靶設計程序
13 濺射鍍膜的膜厚均勻性設計
13.1 濺射鍍膜不均勻性的原因及影響因素
……