赫爾槽實驗裝置

Ⅰ 赫爾槽實驗的赫爾槽陰極試片的鍍層外觀表示方法

為了正確評定赫爾槽的試驗結果，一般以陰極試樣橫向中線偏上的部位作為實驗結果來評定鍍層質量。為了便於對照陰極各點相應的電流密度值可以使用如圖所示的健輝D-DMC267電流密度尺，中間長方形的觀察區域已經打孔，直接覆蓋在陰極試片上，便可知道在不同電流密度時鍍層的質量情況。

Ⅱ 要辦一個合格的電鍍化驗室，應該有什麼樣的配備，需要購買哪些儀器。

該方面的設計公司是沒有了，不過建個這樣的化驗室一般也不需要什麼太回復雜的東西，主要看答LZ是做哪方面的電鍍，每個種類所需要的東西不盡相同

一般涉及到電鍍方面的實驗主要是兩方面，一個是鍍液成分的分析以及赫爾槽實驗，另一方面就是電鍍實驗。
先說一下一般需要的儀器：水浴箱，乾燥箱，整流器，雙聯電爐，磁力攪拌器，吹風機，鹽霧試驗箱，pH計，光譜儀等等
玻璃器皿及材料：錐形瓶，量筒，滴定管，鐵架台，蝴蝶夾，漏斗，燒杯，滴管瓶，洗耳球，溫度計，pH試紙，秒錶，容量瓶，玻璃棒，赫爾槽，濾布，濾紙等等
葯品：一般是化驗用的相關葯品和電鍍需要的相關葯品，主要看你們從事的領域
另外，最好有一個樣品室

各種設備也是逐漸來完善的，不可能一蹴而就，建議根據目前的需要來采購各類物品，其他的以後慢慢補齊，祝順利

Ⅲ 赫爾槽實驗的赫爾槽的實驗裝置

赫爾槽實驗的線路與一般電鍍的線路相同，，如圖所示1，健輝赫爾槽實驗，為了使實驗電流強度穩定， 採用有穩壓穩流的電源，

Ⅳ 如何對霍爾槽試片的圖形進行評價

做霍爾槽試驗，是很多電鍍廠技術人員用來判斷槽液是否正常的一種方法，從試片上能夠
反應出很多問題；一般試片要從時間、PH值、電流、高區、中區、低區、背面的次高區和次低
區、黑線帶、液面黑線帶、雙線帶、虛鍍區來分析。
1、時間：做試片的時間為5分鍾；
2、 PH：得和槽液相同；
3、電流：一安培
4、高區：如果試片出現高區燒焦，說明主鹽成份低；如果高區發霧，說明光亮劑（主光
劑）過多；高區有條紋，說明金屬雜質多；
5、中區：如果試片中區不亮，並有亮區和不亮區的分界線，說明導電鹽或光亮劑不足，可以排查；
6、低區：如果試片低區出現發黑發暗，有幾種原因：一是導電鹽不足，二是光亮劑不足，三是金屬雜質多；
7、背面的次高區：次高區亮區越寬說明走位越好，如果亮區低於1厘米，說明走位不好，光亮劑和導電鹽低；
8、背面的次低區：背面的次低區如無鍍層，說明鉛雜質過多或導電鹽和光亮劑不足，排查；
9、 黑線帶：這些都在試片的背面，有一條孤型黑線帶，但不經常有。當有機物過多時，黑線帶才會出現，並且光亮劑和柔軟劑不成比例，柔軟劑少；背面的黑線帶越淡越細越好；
10、液面黑線：在試片上如有和液面平行的一條黑線（在正面），說明光亮劑過量；
11、雙線帶：如果在試片的背面出現有兩條孤型的黑線帶，說明導電鹽嚴重不足，有機物多；
12、虛鍍區：出現在試片的背面，在孤型黑線帶裡面；出光鈍化後虛鍍層消失，說明鍍液各成份的含量不對，主鹽成份低和導電鹽過高，光亮劑過量；
13、做霍爾槽實驗時，時間、PH值、電流的不同試片所呈現的現象也不同。
做霍爾槽的條件應該是：時間：5分鍾；電流：1安培；
PH值應和大槽鍍液相同，這樣做才和大槽鍍液所表現的條件接近。

Ⅳ 赫爾槽實驗

赫爾槽，又名霍爾槽，哈氏槽，霍耳槽等等，都是來源於英文HULL CELL 的中文音譯，赫爾槽實驗是一種實驗效果好，操作簡單，所需溶液體積小的小型電鍍試驗。他可以較好在短時間內確定獲得外觀合格鍍層的電流密度及其他工藝條件，如溫度，PH值等。用於研究電鍍溶液中主要組分和添加劑的相互影響，幫助分析電鍍溶液產生故障的原因，此外赫爾槽實驗還可以測定電鍍溶液的分散能力、整平能力以及鍍層的內應力，因此，赫爾槽試驗在電鍍實驗研究和現場生產質量控制方面得到了廣泛的應用。

赫爾槽實驗的結構

赫爾槽的結構，如圖所示

赫爾槽實驗
，為健輝赫爾槽實物圖片，槽體材料一般使用耐酸鹼的透明亞克力製作，以便於觀察實驗的情況。赫爾槽陰陽極之間不是平行的，而是有一定的角度，俯視的橫截面應該是一個梯形，梯形高的位置放置陽極，斜邊位置放置陰極，這是赫爾槽的最主要特點。

赫爾槽的容積

赫爾槽根據所裝的容積可分為，267ml、500ml、1000ml三種。最常用的是267ml,液面高度為45mm,赫爾槽使用底部鼓氣的方式來實現溶液攪拌的目的，加熱一般是通過安裝在底部的加熱棒來實現，如圖所示

，健輝加熱打氣267ml,赫爾槽,500ml赫爾槽

赫爾槽
、1000ml赫爾槽

赫爾槽
，以及赫爾槽實驗裝置

赫爾槽的實驗裝置

赫爾槽實驗的線路與一般電鍍的線路相同，，如圖所示1，健輝赫爾槽實驗，為了使實驗電流強度穩定， 採用有穩壓穩流的電源，

赫爾槽實驗方法

1,溶液的選擇

為了獲得正確的試驗結果，選擇的溶液必須具有代表性，在重復實驗時，每次所取溶液的體積應相同，當使用不溶性陽極時，溶液經過1-2次試驗後應該更換新的溶液。如果採用可溶性陽極則最多試驗4-5次後應更換行的溶液，

2 陰陽極材料的選擇

赫爾槽的陰陽極通常都是長方形的薄板，陽極厚度一般為3-5mm,長寬一般為60*70mm,陰極的厚度一般是0.2-0.3mm,一般為100*65mm,如圖1-6所示，為健輝陽極、陰極
陰極
。陽極材料應與生產中使用的陽極相同，也可以使用不銹鋼等不溶性陽極。在某些溶液中陽極容易敦化，可採用瓦楞狀或者網狀，但幾何厚度不超過5mm，鍍鉻陽極在使用前必須在另外的鍍鉻溶液中使表面先獲得一層導電的棕色過氧化鉛的薄膜，才能使用。陰極材料一般為鐵片，銅片，不銹鋼片等

赫爾槽電流強度的確定

赫爾槽的電流強度一般為0.5-2A范圍內，若溶液允許的電流密度的上限較大，則可適當加大。試驗微量雜質影響可用0.5-1A,裝飾性鍍鉻為3-5A,鍍硬鉻為6-15A

赫爾槽試驗時間和溫度

赫爾槽試驗時間，根據溶液的種類，試驗時間一般在5-10分鍾。試驗溫度應與生產相同。

赫爾槽中陰極上的電流密度

在赫爾槽中，陽極到陰極各個部分的距離不一樣，所以，陰極各部分的電流密度分布也不同，在距離陽極近端的陰極部分的電流密度較高，依次往遠端越來越低 。267ml赫爾槽陰極近端與遠端的電流密度相差50倍。這就有助於在同一塊陰極上可以觀察不同電流密度下的鍍層狀況，從而可以大致確定正常電鍍的電流密度的范圍。

赫爾槽陰極試片的鍍層外觀表示方法

為了正確評定赫爾槽的試驗結果，一般以陰極試樣橫向中線偏上的部位作為實驗結果來評定鍍層質量。為了便於對照陰極各點相應的電流密度值可以使用如圖所示的健輝D-DMC267電流密度尺

電流密度尺
，中間長方形的觀察區域已經打孔，直接覆蓋在陰極試片上，便可知道在不同電流密度時鍍層的質量情況。

Ⅵ 赫爾槽實驗的赫爾槽試驗時間和溫度

赫爾槽試驗時間，根據溶液的種類，試驗時間一般在5-10分鍾。試驗溫度應與生產相同。

Ⅶ 什麼叫哈氏片

哈氏片是用於哈氏槽試驗試片電極夾專用於霍爾槽試驗陽極、陰極的導電和固定，接觸試片導電面大,導電電流充裕,緊固試片，通過黃銅片測試可模擬檢測電鍍的品質和查找問題。

在整個哈氏片行業做的比較大的廠家有同興銅材，最新雙面拋光技術全國獨一無二。

黃銅哈氏片專門用於測定鍍鉻溶液中的硫酸根含量，硫酸快速測定儀使用簡便、快捷、誤差小，不需做工作曲線，只需十分鍾即可精確測定出鍍液中硫酸根的含量。

成功的解決了滴定法及重量法檢測復雜、時間長、誤差大的缺點，是鍍鉻工藝分析的必備儀器。

同興銅材哈氏片的規格有以下九種：

100*65*0.2mm(未拋光） 100片/盒

100*65*0.2mm(單面拋光） 100片/盒

100*65*0.2mm(雙面拋光） 100片/盒

100*65*0.25mm(未拋光） 100片/盒

100*65*0.25mm(單面拋光） 100片/盒

100*65*0.25mm(雙面拋光） 100片/盒

100*65*0.3mm(未拋光） 100片/盒
100*65*0.3mm(單面拋光） 50片/盒

100*65*0.3mm(雙面拋光） 50片/盒

哈氏片雙面拋光技術最新研發上市。

赫爾槽實驗簡介
赫爾槽，又名霍爾槽，哈氏槽，霍耳槽等等，都是來源於英文HULL CELL 的中文音譯。赫爾槽實驗是一種實驗效果好，操作簡單，所需溶液體積小的小型電鍍試驗。他可以較好在短時間內確定獲得外觀合格鍍層的電流密度及其他工藝條件，如溫度，PH值等。主要用於研究電鍍溶液中主要組分和添加劑的相互影響，幫助分析電鍍溶液產生故障的原因，此外赫爾槽實驗還可以測定電鍍溶液的分散能力、整平能力以及鍍層的內應力，因此，赫爾槽試驗在電鍍實驗研究和現場生產質量控制方面得到了廣泛的應用。
赫爾槽陰陽極之間不是平行的，而是有一定的角度，俯視的橫截面應該是一個梯形，梯形高的位置放置陽極，斜邊位置放置陰極，這是赫爾槽的最主要特點。
赫爾槽根據所裝的容積可分為：267ml、500ml、1000ml三種。最常用的是267ml，液面高度為45mm，赫爾槽使用底部鼓氣的方式來實現溶液攪拌的目的，加熱一般是通過安裝在底部的加熱棒來實現。

赫爾槽實驗方法
1. 溶液的選擇
為了獲得正確的試驗結果，選擇的溶液必須具有代表性，在重復實驗時，每次所取溶液的體積應相同，當使用不溶性陽極時，溶液經過1-2次試驗後應該更換新的溶液。如果採用可溶性陽極則最多試驗4-5次後應更換新的溶液。
2. 陰陽極材料的選擇
赫爾槽的陰陽極通常都是長方形的薄板，陽極厚度一般為3-5mm，長寬一般為60×70mm，陰極的厚度一般是0.2-0.3mm，一般為100×65mm。
陽極材料應與生產中使用的陽極相同，也可以使用不銹鋼等不溶性陽極。在某些溶液中陽極容易鈍化，可採用瓦楞狀或者網狀，但幾何厚度不超過5mm，鍍鉻陽極在使用前必須在另外的鍍鉻溶液中使表面先獲得一層導電的棕色過氧化鉛的薄膜才能使用。陰極材料一般為鐵片，銅片，不銹鋼片等。
在赫爾槽中，陽極到陰極各個部分的距離不一樣，所以，陰極各部分的電流密度分布也不同，在距離陽極近端的陰極部分的電流密度較高，依次往遠端越來越低 。267ml赫爾槽陰極近端與遠端的電流密度相差50倍。這就有助於在同一塊陰極上可以觀察不同電流密度下的鍍層狀況，從而可以大致確定正常電鍍的電流密度的范圍。

什麼是哈氏片，以及哈氏片的用途性能等都解說完了，希望能幫到您。以下是哈氏片的產地和圖片。

東莞同興銅材

地址：廣東省東莞市長安鎮S358省道133號

Ⅷ 赫爾槽實驗的赫爾槽電流強度的確定

赫爾槽的電流強度一般為0.5-2A范圍內，若溶液允許的電流密度的上限較大，則可適當加大。試驗微量雜質影響可用0.5-1A,裝飾性鍍鉻為3-5A,鍍硬鉻為6-15A