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硅單質的實驗室裝置圖

發布時間:2022-03-13 22:35:16

❶ 硅酸的實驗室製法

實驗室採用水玻璃(硅酸鈉)和鹽酸反應或者硅酸鈉和二氧化碳和水反應製得硅酸膠體。
化學方程式:Na2SiO3+2HCl=2NaCl+H2SiO3↓
電離平衡常數:K1=2.2*10-10(30℃)

❷ 單質硅的結構正六面體

晶體硅的空間結構為正四面體形。

單晶硅具有準金屬的物理性質,有較弱的導電性,其電導率隨溫度的升高而增加,有顯著的半導電性。超純的單晶硅是本徵半導體。在超純單晶硅中摻入微量的ⅢA族元素,如硼可提高其導電的程度,而形成p型硅半導體;如摻入微量的ⅤA族元素,如磷或砷也可提高導電程度,形成n型硅半導體。

❸ 單質硅晶體結構

1.單質硅有__無定型___硅和__晶體__硅兩種.晶體硅的結構與___金剛石__相似,物理性質有____硬度大,熔、沸點高__等_________.晶體硅是良好的___絕緣___材料;硅是人類將__太陽___能轉換__電__能的常用材料.
2.天然二氧化硅的存在形態有___硅藻土__和___石英砂__,統稱__硅石___.天然存在的二氧化硅晶體有__沙子__、___石英__、__水晶___.二氧化硅是__兩__性氧化物,__難__溶於水,__難_與水發生反應,能跟___NaOH___或__KOH___反應,化學方程式為____2NaOH+SiO2=Na2SiO3+H2O,_2KOH+SiO2=K2SiO3+H2O_______________________________;
SiO2還能與__HF___(一種酸)反應,反應方程式為__4HF+SiO2=SiF4+2H2O____,此反應可用來刻蝕玻璃

❹ 工業製取單質硅的方法

工業上生產硅是在電弧爐中還原硅石(二氧化硅含量大於99%)。使用的還原劑為石油焦和木炭等。使用直流電弧爐時,能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低(0.3%~0.8%),採用質量高的硅石(二氧化硅大於99%),可直接煉出製造硅鋼片用的高質量硅。

高純的半導體硅可在1,200℃的熱硅棒上用氫氣還原高純的三氯氫硅製得。超純的單晶硅可通過直拉法或區域熔煉法等制備。實驗室里可用鎂粉在赤熱下還原粉狀二氧化硅,用稀酸洗去生成的氧化鎂和鎂粉,再用氫氟酸洗去未作用的二氧化硅,即得單質硅。

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硅的應用領域:

1、高純的單晶硅是重要的半導體材料。在單晶硅中摻入微量的第IIIA族元素,形成p型硅半導體;摻入微量的第VA族元素,形成n型半導體。

2、金屬陶瓷、宇宙航行的重要材料。將陶瓷和金屬混合燒結,製成金屬陶瓷復合材料,它耐高溫,富韌性,可以切割,既繼承了金屬和陶瓷的各自的優點,又彌補了兩者的先天缺陷。

3、光導纖維通信,最新的現代通信手段。用純二氧化硅可以拉制出高透明度的玻璃纖維。激光可在玻璃纖維的通路里,發生無數次全反射而向前傳輸,代替了笨重的電纜。

❺ 求助:硅XRD圖譜分析

你的混凝土的XRD衍射圖顯示,樣品都是晶體,衍射峰豐富、尖銳、半高寬較窄,譜圖的測試方已經給出結論:標「1」的峰是石英,主要成分是二氧化硅晶體;標「2」的峰主要是硅酸鹽礦物晶體,含鉬較高。你要到有關大學或科學院大實驗室,他們擁有晶體的標准X射線衍射譜數據,可以查閱。標准譜圖PDF卡片(粉末衍射卡)已經歸屬了衍射峰的衍射晶面、各衍射晶面強度之間的相對比例。如果樣品是二種或以上組分的,通過標准PDF卡數據和測試峰強還可以計算各組分之間的相對比例。

❻ 碳、硅元素的單質及其化合物是構成自然界的重要物質。(1)甲烷是最簡單的有機物,實驗室可通過下列反應

(8分)(1)①離子(1分)②Mg 2+ 半徑比Ca 2+ 小,因此MgO晶體的晶格能較大,熔點較高(2分)
(2)①3(1分)②自由電子(1分)(3)極性鍵或σ鍵;(1分)<(1分)(4)D(1分)

❼ 實驗室如何製取純硅

工業上分三步

SiO2 + 2C =高溫= Si + 2CO↑

粗硅轉變為純硅 Si + 2Cl2 =加熱= SiCl4

SiCl4 + 2H2 =高溫= 4HCl + Si

實驗室一般不具備這個條件

❽ 硅單質的實驗室製法

粗硅。。SiO2+2C=Si+2CO氣體符號(條件高溫,電爐)
純硅。。Si(粗)+2Cl2=SiCl4(條件加熱) SiCl4+2H2=Si(純)+4HCl(條件高溫)

❾ 驗證硅酸的酸性比碳酸弱的裝置圖是什麼

裝置可選實驗室制二氧化碳的裝置,再將生成氣體經除雜後通入硅酸鈉溶液中.
即:發生裝置——除雜裝置(飽和食鹽水除HCl)——主體實驗(硅酸鈉溶液)

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