㈠ 一个由电机控制的可以在实验台的竖直导轨上自动上下移动的装置的问题
1、垂直移动可用丝杠轴承，丝杠的转动螺母（实际不是螺母，是个小平回台）上联接所要移动的平答台，丝杠的下端联接小电机，带动平台进行上下移动。
2、位置的检测可用行程开关或光电二极管（位置可调），尽量不用传感器，因为控制线路较麻烦。
3、停止或启动的时间用时间继电器。
这是最简易的方法，简单价廉，适用于对位置要求不是十分精确的场合。
㈡ 位置检测装置在数控机床控制中起什么作用
数控机床的加工精度主要与机械精度，数控系统和伺服系统有关，这几个环节的精度都必须达到要求。
分辨率是机床能识别的最小单位，直接决定机床精度的好坏。主要由数控系统和伺服系统决定。
㈢ 实验四 潜水模拟演示
一、实验目的
1. 熟悉与潜水有关的基本概念，理解潜水与潜水含水层的基本要素。
2. 增强对潜水补给、径流和排泄的感性认识。
3. 加深对流网、潜水流动系统概念的理解，培养综合分析问题的能力。
二、实验内容
1. 观察降雨与降雨入渗的过程。
2. 确定潜水面形状。
3. 分析地下水分水岭的移动。
4. 演示不同条件下的潜水流网。
5. 设计性实验: 利用潜水模拟演示仪进行潜水流动系统的演示。
三、实验仪器和用品
1. 潜水演示仪 (见图Ⅰ4-1) 。仪器的主要组成部分及功能如下。
1) 槽体: 内盛均质砂，模拟含水层。
2) 降雨装置: 模拟降雨，可人为控制雨量的大小及降雨的分布。
3) 模拟井: 两个完整井和两个非完整井分别装在仪器的正面 (A 剖面) 和背面(B 剖面) ，均可人为对任一井进行抽 (注) 水模拟，也可以联合抽 (注) 水。
4) 模拟集水廊道: 可人为控制集水廊道的排水。
5) 测压点: 与测压板上的测压管连通，可以测定任一测压点的测压水头; 与示踪剂注入瓶连通可以演示流线。
6) 测压板。
7) 示踪剂注入瓶。
8) 稳水箱 (用于稳定模拟河水位) 。
9) 蠕动泵 (用于模拟抽水) 。
2. 示踪剂。选用红墨水演示流线。
3. 直尺 (长度 50 cm) 和计算器等。
图Ⅰ4-1 潜水演示仪装置实体图
四、实验步骤
1. 熟悉潜水演示仪的结构及功能
潜水演示仪装置实体图如图Ⅰ4-1 所示。
2. 降雨入渗与地表径流的演示
打开降雨开关，人为调节降雨强度。保持两河较低水位排水。认真观察降雨与降雨入渗过程，地表径流产生情况。分析讨论:
1) 降雨强度与入渗、地表径流的关系。
2) 地形与地表径流的关系。
3. 观测有入渗条件的潜水面形状
如图Ⅰ4-2 所示，潜水含水层中，等势线上各点的水头都相等，即 B、C、D 各点测压水位分别与潜水面上 M、N、O 各点的测压水位相等。由此，可以按以下步骤确定潜水面的形状。
1) 给予中等强度降雨，保持两河以相等低水位排水，待水位稳定后，测定井水位和河水位，并按比例表示在图Ⅰ4-3 上。
2) 在河与分水岭之间选择 3 ～ 5 个测压点，注入示踪剂，观察流线特征，分析流网分布规律，在图Ⅰ4-3 上画出流线和等势线。
3) 选择 3 ～ 5 个测压点与测压管连接 (注意连接时不要进气) ，测定测压点测压水位，按比例表示在图Ⅰ4-3 上。自各测压点测压水位顶点作水平线与各测压点所在的等势线 (各交点均在潜水位线上) 相交。结合井水位和河水位以及各平行线与等势线的交点，在图Ⅰ4-3 上描绘潜水位线。
图Ⅰ 4-2 潜水含水层中等势线任一点水头示意图(测压管涂黑部分为对应点的测压高度)
4. 观测地下水分水岭的偏移
给予中等强度均匀降雨，保持两河以相等低水位排水，观察地下水分水岭的位置。
抬高一侧河水位，即抬高一侧的稳水箱，观察地下水分水岭向什么方向移动。试分析为什么分水岭会发生移动，能否稳定; 停止降雨，地下水分水岭又将如何变化。认真观察停止降雨后地下水分水岭的变化过程。
5. 选择性实验内容
分组选择人为活动影响下，地下水与河水的补给和排泄关系的变化演示。
基本实验条件: 给予中等强度降雨，保持两河以相等较高水位排水，使地下水位处于稳定的初始状态，选择 3 ～5 个测压点注入红色示踪剂。具体演示内容如下。
1) 集水廊道排水: 打开集水廊道开关进行排水。观察流线变化特征，分析集水廊道排水对地下水与河水的补给和排泄关系的影响。
2) 完整井抽 (注) 水: 恢复初始状态。将蠕动泵水管分别插入两个完整井内，进行同流量或不同流量的抽水。观察地下水分水岭的变化及流线形态。
3) 非完整井抽水: 恢复初始状态。将蠕动泵水管分别插入两个完整井内，通过开关控制两个非完整井的等降深抽水。在适当的测压点上注入示踪剂，观察流线形态并在图Ⅰ4-4 上描绘地下水流线。分析讨论: 两个非完整井的等降深抽水时，各井的抽水量是否相等。
五、实验成果
1. 根据上述实验步骤 3 在图Ⅰ4-3 上绘制剖面的流网图。
2. 根据实验步骤 5 中非完整井抽水的演示，在图Ⅰ4-4 上示意性画出两个非完整井的等降深抽水时的流网图。
3. 思考: 对于河间地块潜水含水层，当河水位不等时，地下水分水岭偏向哪一侧。试分析其原因。
4. 对选做实验结果进行描述。
六、设计性实验 (供参考)
1. 对于河间地块潜水含水层，在不均匀降雨条件下流网与 流 动 系统 特征 如 何变化。
2. 对于河间地块潜水含水层，在中等强度均匀降雨条件下，一个水井以不同强度抽水，地下水流会发生哪些变化。
3. 对于河间地块潜水含水层 (实验用潜水演示仪) ，在什么条件下可以形成多级流动系统。试设计实验方案并进行演示。
图Ⅰ4-3 潜水模拟演示 (A 剖面)
图Ⅰ4-4 潜水模拟演示 (B 剖面)
㈣ 数控机床对位置检测装置的要求有哪些 详细
直接测量和间接测量
1．直接测量
直接测量是将检测装置直接安装在执行部件上，如光栅、感应同步器等用来直接测量工作台的直线位移，位置检测装置安装在执行部件(即末端件)上直接测量执行部件末端件的直线位移或角位移，可以构成闭环进给伺服系统。测量方式有直线光栅、直线感应同步器、磁栅、激光干涉仪等测量执行部件的直线位移。由于此种检测方式是采用直线型检测装置对机床的直线位移进行测量，因此，其优点是直接反映工作台的直线位移量；缺点是要求检测装置与行程等长，对大型的数控机床来说，这是一个很大的限制。
2．间接测量
间接测量装置是将检测装置安装在滚珠丝杠或驱动电动机轴上，通过检测转动件的角位移来间接测量执行部件的直线位移。
位置检测装置安装在执行部件前面的传动元件或驱动电动机轴上，测量其角位移，经过传动比变换以后才能得到执行部件的直线位移量，这样可以构成闭环伺服进给系统，如将脉冲编码器装在电动机轴上。
间接测量使用可靠、方便，无长度限制；其缺点是，在检测信号中加入了直线转变为旋转运动的传动链误差，从而影响测量精度。一般需对数控机床的传动误差进行补偿，才能提高定位精度。
除了以上位置检测装置，伺服系统中往往还包括检测速度的元件，用以检测和调节发动机的转速。常用的元件是测速发电机。
位置检测装置是数控机床伺服系统的重要组成部分。它的作用是检测位移和速度，发送反馈信号，构成闭环或半闭环控制。数控机床的加工精度主要由检测系统的精度决定。不同类型的数控机床，对位置检测元件，检测系统的精度要求和被测部件的最高移动速度各不相同。现在检测元件与系统的最高水平是：被测部件的最高移动速度高至240m/min时，其检测位移的分辨率（能检测的最小位移量）可达1μm，如24m/min时可达0.1μm。最高分辨率可达到 0.01μm。
数控机床对位置检测装置有如下要求：
（1）受温度，湿度的影响小，工作可靠，能长期保持精度，抗干扰能力强。
（2）在机床执行部件移动范围内，能满足精度和速度的要求。
（3）使用维护方便，适应机床工作环境。
（4）成本低。
㈤ 位置检测装置的种类和它们分别安装在机床哪些部位
位置检测装置
一、位置检测装置的分类和要求
位置检测装置是闭环进给伺服系统的重要组成部分，其精度在很大程度上由位置检测装置的进度决定。现在，检测元件与系统的最高水平：被测部件的最高移动速度240m/min时，检测位移分辨率1um；24m/min时，分辨率0.1um；最高分辨率可达0.01um。
对位置检测装置的要求：
1） 受温度、湿度的影响小，工作可靠，能长期保持精度，抗干扰能力强；
2） 在机床执行部件移动范围内，能满足精度和速度要求；
3） 使用维护方便，适应机床工作环境。
4） 成本低。
（一）数字式和模拟式测量（所获得的信号不同）
1．数字式测量
将被测量以数字的方式表示。测量信号一般为电脉冲，可直接送到数控装置进行比较处理和显示。这样的检测装置有：光栅检测装置、脉冲编码器。装置比较简单，抗干扰能力强。
2．模拟式测量
将被测量用连续变量表示。如：电压的幅值变化、相位变化。对相位变化的量可直接送数控装置与移相的指令电压进行比较，对幅值变化的量，可先将其转换为数字脉冲信号，再送数控装置进行比较和显示。这类装置有：旋转变压器、感应同步器。
（二）增量式和绝对式测量（测量方式不同）
1．增量式测量
只测出位移的增量，并用数字脉冲的个数来表示单位位移的数量。
由于位移的距离是由增量值累积求得，所以，一旦某处测量有误，则其后所得的位移距离都是错误的。
由于不能指示绝对坐标位置，当因事故断电停机检查，执行部件的位置发生变化后，不能由检修后的位置直接回到停机时的原位，而要先回到加工程序的起始位置，并计算出起点到停机位置的距离，才能用位移指令，令执行部件移回停机时的位置，以便继续加工。光栅、脉冲编码器、旋转变压器、感应同步器、磁尺都是增量式检测装置。
2．绝对式测量
能测出被测部件在某一绝对坐标系中的绝对坐标值，并以二进制或二十进制数码信号表示。需要转换成脉冲数字信号才能送去比较和显示。有：绝对式脉冲编码盘、三速式绝对编码盘。结构复杂，分辨率与位移量都受限制。
此外，根据安装测量位置，有直接测量和间接测量。
㈥ 氮化铝（AlN）是新型的电子绝缘基片材料，用于大型和超大型集成电路中．某兴趣小组开展了制取氮化铝并测
【实验一】
甲组：（1）氢氧化钠溶液吸收空气中二氧化碳，浓硫酸吸收通过氢氧化钠溶液的气体中的水，若两装置交换位置，则气体中的水不能被吸收；
（2）根据信息：在高温下氮气、碳和三氧化二铝反应可以生成氮化铝粉和一氧化碳，装置D中发生反应化学方程式为：N2+3C+Al2O3
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