反渗透有反洗装置如何设计

① 你好，能不能发一份反渗透离线清洗装置设计图，谢谢！

反渗透离线清洗装置设计图
这个是需要CAD还是怎么说

② 怎样清洗反渗透设备

反渗透技术的应用很广泛，不管是在纯净水设备还是在超纯水设备中都会看到专反渗透技属术，而我们所用到的反渗透设备更是以反渗透技术为核心，为了能让设备更好的实现工作效率，必须注意设备的保养，下面我来为大家介绍一下反渗透设备的清洗方法。主要有低压冲洗、停运保护、反渗透膜化学清洗这几种。低压冲洗对于维持膜性能的效果非常好，停运保护的形式只适用于短期的养护，如果想要长期进行保护必须使用化学清洗剂。一般的清洗时间3到12个月清洗一次，但是每个月必需要清洗的话就要检查一下是否是预处理系统出现了问题，适当对运行参数进行调整。在深圳恒通源看到的。

③ 求反渗透离线清洗装置图纸

这要画才行，是八寸还是四寸膜？采纳了我的，我就给你画一个吧。

④ 反渗透设备应该怎样清洗

反渗透设备的有效清洗方法

一、渗透设备的离线清洗方法

离线清洗主要指的是把膜元件从反渗透压力容器中卸下，放入到专用清洗设备中进行清洗消毒，切记一次清洗数量不超过6支，多过会降低清洗效果。这种清洗方式操作简单方便，清洗彻底、效果最佳。但缺点也有所突出，当膜元件较多时，清洗时间由膜元件决定。如果设备过度是不推荐，除非反渗透污染较严重或在线清洗效果差时可采用此方法。

二、反渗透设备的在线清洗方法

在线清洗主要是对反渗透装置整体进行清洗，膜元件不会用拿出压力容器，通常在较大系统中设计使用。此清洗方式操作简单方便，时间短，但容易造成清洗不彻底，效果不理想，可通过短时间清洗一次的方法来达到清洗的目的，但是这样会浪费更多的时间。如果反渗透装置污染较轻时可采用此方法。

⑤ 反渗透怎么冲洗

反渗透膜物理清洗操作步骤：

（1）停止装置
缓慢地降低操作压力，逐步停止装置。急速停车造成的压力急速下降会形成水锤，将会对管道、压力容器以及膜元件造成冲击性损伤。
（2）调节阀门
首先全开浓缩水阀门；然后关闭进水阀门；接着全开产水阀门（如关闭系统后关闭了产水阀门）。如果错误的关闭产水阀门，压力容器中的后端的膜元件可能因为产水背压而造成膜元件机械性损伤。
（3）清洗作业
首先启动低压清洗泵；然后缓慢地打开进水阀，同时观察浓缩水流量计的流量；调节进水阀门直至流量和压力调节到设计值；最后在10-15分钟后慢慢地关闭进水阀门，停止进水泵。

反渗透膜化学清洗操作步骤：

（1）在4Bar（60Psi）或更低压力条件下进行低压冲洗，即从清洗水箱中（或合适的水源）向压力容器中泵入清洁水并排放几分钟。冲洗水必须是洁净的、去除硬度、不含过渡金属（Fe、Mn等）和余氯的RO产品水或去离子水。
（2）在清洗水箱中配制指定的清洗溶液。配制用水必须是去除硬度、不含过渡金属和余氯的RO产品水或去离子水。将清洗液的温度和pH应调到所要求的值。
（3）启动清洗泵将清洗液泵入膜组件内，循环清洗约1小时或是要求的时间。在初始阶段，在清洗液返回至RO清洗水箱之前，应将最初的回流液排放掉，以免系统内滞留的水稀释清洗溶液。在化学药剂与RO装置接触后，装置内的污染物在化学反应的作用下会被大量冲出，为了避免污染清洗液，这些清洗液也应该被排放掉，直至清洗液颜色转淡再进入循环清洗。在循环清洗最初的5分钟内，缓慢地将流速调节到最大清洗流速的1/3。并在第二个5分钟内，增加流速至最大设计流速的2/3，最后再增加流速至最大清洗流速值。如果需要，当pH的变化大于0.5，就要重新添加药品调整pH值。
（4）根据需要可交替采用循环清洗和浸泡程序。浸泡时间可根据制造商的建议选择1至8小时。在整个清洗过程中要谨慎地保持合适的温度和pH值。
（5）化学清洗结束后，要用清洁水（去除硬度、不含金属离子如铁和氯的RO产品水或去离子水）进行低压冲洗，从清洗装置及相关管路中冲洗残留化学药剂，排放并冲洗清洗水箱，然后再用清洁水完全注满清洗水箱。从清洗水箱中泵入所有的冲洗水冲洗压力容器并排放。直至RO装置内的残留化学药品基本被清除。
（6）采用清洁水完全冲洗后，就可用预处理给水进行最终的低压冲洗。给水压力应低于4bar，最终冲洗持续进行直至冲洗水干净，且不含任何泡沫和清洗剂残余物。通常这需要15-60分钟。操作人员可用干净的烧瓶取样，摇匀，监测排放口处冲洗水中洗涤剂和泡沫的残留情况。洗液的去除情况可用测试电导的方法进行，如冲洗水至排放出水的电导在给水电导的10-20%以内，可认为冲洗已接近终点；pH表也可用于测定冲洗水与排放水的pH值是否接近。
（7）低压冲洗结束后，RO装置可以重新开始运行，但初始的产品水要进行排放并监测，直至RO产水可满足工艺要求（电导、pH值等）。这一段恢复时间有时需要从几小时到几天，才得到稳定的RO产水水质，尤其是在经过高plH清洗后。

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⑥ 反渗透装置反冲洗和化学清洗一样吗

不一样的反渗透装置反冲洗是设备自己自动反冲洗，不需要人为操作，化学清洗是要手动添加化学剂。松芝水处理技术。

⑦ 反渗透装置在什么情况下需要进行清洗

1)标准化的淡水量下降了10-15%.
2)标准化的脱盐率下降了10-15%.
3)为了维持正常的产品水流量,经温度校专正后的进属水压力增加了10-15%.
4)已证实装置内部有严重的污染或结构物.
5)反渗透装置长期停用前.
6)反渗透装置的例行维护.

⑧ 反渗透装置怎么做,由哪些组成

膜元件、膜壳、相应配套的管件、连接件、高压泵、保安过滤器、低压冲洗装置，要是配置设计得好的，还会有化学清洗的一套装置

⑨ 反渗透装置的反渗透装置的清洗方法

反渗透技术因具有特殊的优越性而得到日益广泛的应用。反渗透净水设备的清洗问题可能使许多技术力量不强的用户遭受损失，所以要做好反渗透装置的管理，就可以避免出现严重的问题。
1.低压冲洗反渗透装置
定期对反渗透装置进行大流量、低压力、低pH值的冲洗有利于剥除附着在膜表面上的污垢，维持膜性能，或当反渗透装置进水SDI突然升高超过5.5以上时，应进行低压冲洗，待SDI值调至合格后再开机。
2.反渗透装置停运保护
由于生产的波动，反渗透装置不可避免地要经常停运，短期或长期停用时必须采取保护措施，不适当地处理会导致膜性能下降且不可恢复。
短期保存适用于停运15d以下的系统，可采用每1～3d低压冲洗的方法来保护反渗透装置。实践发现，水温20℃以上时，反渗透装置中的水存放3d就会发臭变质，有大量细菌繁殖。因此，建议水温高于20℃时，每2d或1d低压冲洗一次，水温低于20℃时，可以每3d低压冲洗一次，每次冲洗完后需关闭净水设备反渗透装置上所有进出口阀门。
长期停用保护适用于停运15d以上的系统，这时必须用保护液(杀菌剂)充入净水设备反渗透装置进行保护。常用杀菌剂配方(复合膜)为甲醛10(质量分数)、异噻唑啉酮20mg/L、亚硫酸氢钠1(质量分数)。
3.反渗透膜化学清洗
在正常运行条件下，反渗透膜也可能被无机物垢、胶体、微生物、金属氧化物等污染，这些物质沉积在膜表面上会引起净水设备反渗透装置出力下降或脱盐率下降、压差升高，甚至对膜造成不可恢复的损伤，因此，为了恢复良好的透水和除盐性能，需要对膜进行化学清洗。
一般3～12个月清洗一次，如果每个月不得不清洗一次，这说明应该改善的预处理系统，调整的运行参数。如果1～3个月需要清洗一次，则需要提高设备的运行水平，是否需要改进预处理系统较难判断。

⑩ 反渗透如何反洗

反渗透膜正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在悬浮物或难溶盐的污染，这些污染中最常见的碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物(如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质)微生物藻类、霉菌、真菌)等污染。污染性质和污染速度取决于各种因素，如给水水质和系统回收率。通常污染是渐进发展的,如不尽早控制，污染将会在相对较短的时间内损坏膜元件。当膜元件确证已被污染，或是临时停机之前，或是作为定期日常维护，建议对膜元件进行清洗。当反渗透系统（或装置）出现以下症状时，需要进行化学清洗或物理冲洗：正常给水压力下，产水量较正常值下降10-15%,为维持正常的产水量，经温度校正后的给水压力增加10-15%,产水水质降低10-15%,透盐率增加10-15%,给水压力增加1015%,系统各段之间压差明显增加。
已受污染的反渗透膜的清洗周期根据现场实际情况而定。正常的清洗周期是每3-12个月一次。当膜元件仅仅是发生了轻度污染时，重要的清洗膜元件。重度污染会因阻碍化学药剂深入渗透至污染层，影响清洗效果。
清洗何种污染物以及如何清洗要根据现场污染情况而进行。对于几种污染同时存在复杂情况，清洗方法是采用低PH和高PH清洗液交替清洗（应先低PH后高PH值清洗）
污染物情况分析:1碳酸钙垢：碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分散剂添加系统出现故障时，或是加酸pH调节系统出故障而引起给水pH增高时，碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的pH值至3-5运行1-2小时的方法去除。对于堆积时间长的碳酸钙垢，可用低pH值的柠檬酸溶液清洗去除。2硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢：硫酸盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢，且不易去除。硫酸盐垢可在阻垢剂/分散剂添加系统出现故障或加硫酸调节pH时沉积出来。尽早地检测硫酸盐垢对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的硫酸钡和硫酸锶垢较难去除，因为它几乎在所有的清洗溶液中难以溶解，所以，应加以特别的注意以防止此类结垢的生成。3金属氧化物/氢氧化物污染：典型的金属氧化物和金属氢氧化物污染为铁、锌、锰、铜、铝等。这种垢的形成导因可能是装置管路、容器(罐/槽)腐蚀产物，或是空气中氧化的金属离子、氯、臭氧、钾、高锰酸盐，或是由在预处置过滤系统中使用铁或铝助凝剂所致。4聚合硅垢：硅凝胶层垢由溶解性硅的过饱和态及聚合物所致，且非常难以去除。需要注意的这种硅的污染不同于硅胶体物的污染。硅胶体物污染可能是由与金属氢氧化物缔合或是与有机物缔合而造成的硅垢的去除很艰难，可采用传统的化学清洗方法。现有的化学清洗药剂，如氟化氢铵，已在一些项目上得到胜利的使用，但使用时须考虑此方法的操作危害和对设备的损坏，加以防护措施。5胶体污染：胶体是悬浮在水中的无机物或是有机与无机混合物的颗粒，不会由于自身重力而沉淀。胶体物通常含有以下一个或多个主要组份，如：铁、铝、硅、硫或有机物。6非溶性的天然有机物污染(NOM),非溶性天然有机物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的营养物的分解而导致的有机污染的化学机理很复杂，主要的有机组份或是腐植酸，或是灰黄霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用发生，渐渐地结成凝胶或块状的污染过程就会开始。7微生物堆积：有机堆积物是由细菌粘泥、真菌、霉菌等生成的这种污染物较难去除，尤其是给水通路被完全堵塞的情况下。给水通路堵塞会使清洁的进水难以充分均匀的进入膜元件内。为抑制这种沉积物的进一步生长，重要的不只要清洁和维护RO系统，同时还要清洁预处理、管道及端头等。对膜元件采用氧化性杀菌时，使用认可的杀菌剂。
清楚污染物惯例清洗液介绍1.[溶液1]2.0%W柠檬酸(C6H8O7低pH)pH值为3-4清洗液。以于去除无机盐垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体十分有效。
2.[溶液2]0.5%W盐酸低pH清洗液(pH为2.5)主要用于去除无机物垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体。这种清洗液比溶液1要强烈些，因为盐酸(HCl)为强酸。3[溶液3]0.1%W氢氧化钠高pH清洗液(pH为11.5）用于去除聚合硅垢。这一洗液是一种较为强烈的碱性清洗液。4.[溶液4]氢氧化钠-EDTA四钠-六偏磷酸钠清洗液。
清洗步骤：先用杀菌剂如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最后用水冲洗至中性，所用水应为反渗透产水。