asml設備哪個品牌好

❶ 現代的高端光刻機，哪些國家才能製造

荷蘭和日本。最大的光刻機製造商是荷蘭ASML，這是一家總部設在荷蘭埃因霍芬（Eindhoven）的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。

產品服務

ASML為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，比如英特爾（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台積電（TSMC）、中芯國際（SMIC）等。

ASML的產品線分為PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列現已停產；AT系列屬於老型號，多數已經停產。市場上的主力機種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機型，分為乾式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現在主推的高端機型，全部為沉浸式。

❷ 阿斯麥公司製造新一代光刻機，這一代光刻機與之前的相比如何

新一代光刻機相比之前的設備肯定各方面都會更先進，關於新一代EUV光刻機的性能參數，阿斯麥公司並未透露太多，阿斯麥公司製造新一代光刻機肯定會在製造的良率、工藝水平等方面都會有很大提升和進步，因為性能和各方面都更優秀，所以價格方面也很驚人，據說這架新一代光刻機售價高達4億美元，目前這架新一代光刻機還在製造當中，預計會在2025年交付客戶開始使用，這對於阿斯麥公司來說是一次重大的突破，同時對製造業也會引起不小的轟動。

這台新一代光刻機的製造對整個行業來說都會帶來巨大的沖擊，各行各業都在關注此事，不知道這次阿斯麥公司會給我們帶來怎樣的驚喜，也有人表示雖然這台歸光刻機擁有超高的性能，但是價格過於昂貴也難以讓人接受。

❸ 國產光刻機哪個品牌好

光刻機品牌主要有：ASML，尼康，佳能，歐泰克，上海微電子裝備，SUSS，ABM, Inc.

❹ 2022年荷蘭ASML公司賣出62台光刻機，中國買走多少設備

荷蘭的ASML是目前全球最頂尖的光刻機提供商，尤其是在高端光刻機領域，幾乎占據了全球100%份額。

一、 最近幾年，ASML銷售業績增速非常快。

因為在高端光刻機擁有絕對的優勢，所以asml的光刻機一直供不應求，最近2年時間雖然受到疫情的影響，但因為全球晶元普遍供不應求，所以ASML的光刻機也供不應求，因此asml的業績也有了快速的增長。2021財年，ASML營業收入為186.11億歐元，同比上漲33.14%；歸屬於母公司普通股股東凈利潤為58.83億歐元，同比增長更是高達65.55%；不過進入2022年之後，asml業績貌似有所下降，從第一季度的財報來看，其營收只有39.6億美元，同比下降24.57%，利潤更是只有7.8億美元，同比下降51.36%。

沒有EUV光刻機做後盾，想要生產7納米以上的晶元基本上不可能，目前一些中低端光刻機最多隻能用於生產14納米的晶元，就算通過多重曝光之後，最多也只能生產10納米左右的光刻機。雖然中芯國際通過技術工藝上的改進，實現了N+1、N+2工藝，生產出來的芯跟7納米比較接近，但跟目前世界上最頂尖的5納米，甚至3納米晶元相比，仍然有很大的差距。所以想要解決我國晶元問題，光靠進口光刻機是行不通的，西方國家永遠不可能把最先進的設備賣給我們，想要縮小我國晶元製造實力跟世界頂尖水平的差距，還得靠自力更生，打鐵還需自身硬。

❺ ASML是什麼意思

1、荷蘭ASML公司 (全稱： Advanced Semiconctor Material Lithography，目前該全稱已經不作為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國台灣）。

2、光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

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光刻機工作原理

在加工晶元的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的晶元可以繼續塗膠、曝光。越復雜的晶元，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。

❻ 世界上能做出高端光刻機的國家有哪些

能製造高端光刻機的只有荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。

高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬美金的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。

拓展資料：

光刻機種類

一、接觸式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形解析度相當，設備簡單。接觸式，根據施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。

1、軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似於勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；

2、硬接觸 是將基片通過一個氣壓（氮氣），往上頂，使之與掩膜接觸；

3、真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合（想一想把被子抽真空放置的方式）

二、接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板與光刻膠基底層保留一個微小的縫隙（Gap），Gap大約為0～200μm。可以有效避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷，使掩膜和光刻膠基底能耐久使用；掩模壽命長（可提高10 倍以上），圖形缺陷少。接近式在現代光刻工藝中應用最為廣泛。

三、投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板與光刻膠之間使用光學系統聚集光實現曝光。一般掩膜板的尺寸會以需要轉移圖形的4倍製作。優點：提高了解析度；掩膜板的製作更加容易；掩膜板上的缺陷影響減小。

光刻機——網路

❼ 世界上最好的光刻機來自荷蘭，為什麼不是晶元發達的美國

世界上最頂端的光刻機來自荷蘭阿斯麥的極紫外光光刻設備，差不多1.2億美元一台，還壟斷著世界高端光刻機市場，像現在最先進製程的7納米，有的國家有錢也是買不到的。

那麼為什麼這種世界高科技光刻機公司不在美國，而在荷蘭呢？首先最重要的這種技術並不是美國搞不出來。

四，是美國掌握著世界晶元最頂端的晶元設計技術，光刻機是為晶元服務，如果美國停止設計高端晶元，那麼荷蘭的高端光刻機毫無用處，產量也是被美國控制著，不過這種優勢美國越來越掌握不住了。

總的來說世界最高端的光刻機雖然在荷蘭，但是被美國控制著。

❽ 一家中企買下三台光刻機，它是哪家呢

華為在5G取得絕對領先地位後，美國開始經常製造麻煩，在此過程中，華為首當其沖，成為美國打擊的焦點。特別是2020年，美國對華為在晶元方面展開全方位封鎖。此外，我國在半導體領域起步晚，再加上處處面臨技術壟斷，華為陷入了前所未有的晶元危機。這不是華為一家的危機，而是整個中國科技市場的危機。因此，2020年，我國所有半導體企業全力突破半導體技術，突破美國壁壘，努力盡快實現自主性。

其中，去年12月，南大光電在ArF取得突破性進展，成功通過了客戶使用認證階段。據悉，該光刻將用於最高7納米晶元生產，這毋庸置疑，我國在晶元生產技術的突破上再次取得重大進展。同月，上海申陽也在ArF干法光刻及KrF厚膜光刻研究中取得成功，2022年將成功實現KrF厚膜光刻的量產，一年後將順利實現ArF干法光刻的量產。這種自然和成功購買的三個ASML光刻機器的使用是不可分割的。

光刻膠生產技術的成功突破將使美國在晶元生產上對我國產生更少的壁壘，我國也將在此基礎上進一步加快晶元研發進程。當然，有些人可能會說，我們國家晶元生產研發取得了這樣的成果，但還需要使用外國嗎？事實是事實，但我們需要明確的一點是，晶元的生產、研究和開發不是一蹴而就的，而是目前科學技術的代表性產品之一，強調循序漸進。約翰肯尼迪，Northern Exposure(美國電視)，我們可以加快速度，但這並不意味著我們必須跳過其中的一個階段，跳躍。只有腳踏實地，才能實現真正的突破。世界未來的晶元市場也必將因中國的成功加入而發生翻天覆地的變化。