A. 真空鍍膜機各泵工作順序,原因,原理
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
原理是將擴散泵油加熱至沸騰,氣化的油霧通過噴油嘴向四周噴射,擴散泵的四周有冷卻水管或者水套,將噴射的油霧冷卻液化流下至泵的底部循環。如果上半部分熱的話說明冷卻不好,會向真空室返油,那就是不正常的現象了,說明冷卻不好,原因可能是水壓不夠或者水管內有阻塞。

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蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。
對於濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,並且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。
在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對於薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。