pecvd儀器壓力怎麼控制

㈠ 關於光伏太陽能電池部PECVD工序，如何才能有效控制碎片率，注意哪些細節方面

1.注意上下片的手法和真空吸筆的壓力，片子輕拿輕放，真空吸筆的壓力要大小適中。
2.注意昌返如工藝點的磨損情況，磨損嚴重的要及時更換。
3.沉積時注意耐啟溫度不要急世前升急降。
4.沉積完成出舟速度不可過快。

㈡ 壓力表怎麼調壓力

壓力開關調壓力的流程如下：

1、設置控制壓力的方法：

（1）短按(ON/OFF)運行鍵，關閉運行指示燈，壓力控制系統關閉。

（2）設置控制上限/下限，短按SET鍵1次，進入下限設置狀態(對應下限指示燈亮)，通過(▲)(▼)設置數值,設置下限完成後，短按SET鍵進入上限設置，設置方法同上。

（3）設置完成後，按SET鍵將設定值自動存入電腦晶元（參數修改後，5秒悉歷鍾內無按鍵操作會自動保存當前參數設置）。

（4）再次按(ON/OFF)運行鍵(對應運行指示燈亮)，電機開始工作。

2、單位切換方法：短按(ON/OFF)運行鍵，關閉運行指示燈，短按增加鍵(▲)可以將單位在MPa、Kg/cm、PSI之間任意切換。設置完成後開啟運行指示燈。

3、零位清零功能：短按(ON/OFF)運行鍵，關閉運行指示燈，長按減小鍵(▼)5秒可以將當前壓力值清零,修正零位誤差。設置完成後開啟運行指示燈。(使用此功能時壓力睜跡搜開關不得施加壓力。)

(2)pecvd儀器壓力怎麼控制擴展閱讀：

壓力開關的原理：

1、採用英制管螺紋快速接頭或銅管焊接式安裝結構，安裝靈活，使用方便，無需特殊的安裝固定。

2、插片式導線式連接方可供用戶任意選定。

3、密封式不銹鋼感應器安全可靠。

4、壓力范圍內可根據用戶任意選定的壓力值進行製造。壓力開關是與電器開關相結合的裝置，當到達預先設定的流體壓力時，開關接點動作。主要應用於電廠、石化、冶金行業等工業設備上輸出報警或控制信號，在工業領域中有著重要的用途，能預防生產工程中重要裝置的損壞，避州激免了重大生產事故地發生。

㈢ 壓力控制器怎麼調整

一個控制主值，一個控制幅差，上邊的控制主值，有控制上限的，也控制下限的，一般情況下控制高壓啟動低壓停止的，控制上限，如伙食冰機，控制低壓啟動高壓停止的控制下限，幅差值由下邊的旋鈕控制，刻度只能當參考，要以壓力表為准，上限值=下限值+幅差。根據這一公關系調節，例如控制4公斤啟動，5公斤停止，現將幅差調到最小，然後調節主值定到4公斤，在調節幅差值1公斤，根據壓力表反復調節幾次就可以了。 這得看你用的是什麼樣的壓力表，以及控制器。
如果是家用的壓力開關的話，不能設置高低壓，可調節容積僅有0.5公斤。
電接點壓力表的，直接在壓力表上設置高低壓。應先把電接點表的三個接線端子接好，一般紅線為高壓端子，綠線為低壓端子，黃線為公共端。
如果用的遠傳壓力表或是壓力感測器，應在控制系統面板上設置高低壓。
電接點壓力表，在表的中心有個絲扣，用螺絲刀壓下去，可以碰觸到高壓針和低壓針，然後設置即可。
注意,如果壓力表沒有接好的話，即使工作，會產生高壓不停機的現象。

㈣ 壓力試驗機怎麼操作

壓力試驗機操作步驟：1、該儀器需由專人操作。2、在使用前必須檢查油箱的油標位置和油管接著是否松動。3、放好試塊，轉動手輪，調整絲桿高度，可調至試件離上壓板1-2mm。4、接通電源，啟動電動機。5、關閉回油閥，控制送油閥，當強度等級小C30時，取0.3-0.5Mpa/s的加荷速度，強度等級大於或等於C30時，取0.5-0.8Mpa/s的加荷速度;當試件接近破壞而開始迅速變形時，應停止調整試驗機油門，直到試件破壞。6、試件破碎後，打開回油閥，使活塞回落，此時，從指針所指讀數即為該試件的破壞荷載，並予以記錄。7、清掃試件碎屑，進行下一次試驗。8、試驗完畢後，按停止鍵，關閉電機，關閉電源。

天津市美特斯試驗機廠是集科研開發、加工製造、經營經銷於一體的企業。公司產品壓力試驗機主要用於混凝土、石材等建材產品及其它材料的抗壓強度的試驗。本機採用液壓加荷、電子測力；具有數字顯示試驗力及加荷速度，試驗力保持等功能。該機還可配置計算機，可進行數字採集、處理，也可直接將試驗結果列印和存儲。

㈤ PECVD工作原理是什麼

1PECVD工藝的基本原理

PECVD技術是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤）產生輝光放電，利用輝光放電（或另加發熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然後通入適量的工藝氣體，這些氣體經一系列兆衫化學反應和等離子體反應，最終在樣品表面形成固態薄膜。其工藝原理示意圖如圖1所示。

在反應過程中，反應氣體從進氣口進入爐腔，逐漸擴散至樣品表面，在射頻源激發的電場作用下，反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些中圓分解物發生化學反應，生成形成膜的初始成分和副反應物，這些生成物以化學鍵的形式吸附到樣品表面，生成固態膜的晶核，晶核逐漸生長成島狀物，島狀物繼續生長成連續的薄膜。在薄膜生長過程中，各種副產物從膜的表面逐漸脫離，在真空泵的作用下從出口排出。

2.2PECVD設備的基本結構

PECVD設備主要由真空和壓力控制系統、淀積系統、氣體及流量控制、系統安全保護系統、計算機控制等部分組成。其設備結構框圖如圖2所示。

2.2.1真空和壓力控制系統

真空和壓力控制系統包括機械泵、分子泵、粗抽閥、前級閥、閘板閥、真空計等。為了減少氮氣、氧氣以及水蒸氣對淀積工藝的影響，真空系統一般採用干泵和分子泵進行抽氣，干泵用於抽低真空，與常用的機械油泵相比，可以避免油泵中的油氣進入真空室污染基片。在干泵抽到一定壓力以下後，打開閘板閥，用分子泵抽高真空。分子泵的特點是抽本體真空能力強，尤其是除水蒸汽的能力非常強。

2.2.2淀積系統

淀積系統由射頻電源、水冷系統、基片加熱裝置等組成。它是PECVD的核心部分。射頻電源的作用是使反應氣體離子化。水冷系統主要為PECVD系統的機械泵、羅茨泵、干泵、分子泵等提供冷卻，當水溫超過泵體要求的溫度時，它會發出報警信號。冷卻水的管路採用塑料管等絕緣材料，不可用金屬管。基片加熱裝置的作用使樣品族培腔升溫到工藝要求溫度，除掉樣品上的水蒸氣等雜質，以提高薄膜與樣品的附著力。

2.2.3氣體及流量控制系統

PECVD系統的氣源幾乎都是由氣體鋼瓶供氣，這些鋼瓶被放置在有許多安全保護裝置的氣櫃中，通過氣櫃上的控制面板、管道輸送到PECVD的工藝腔體中。

在淀積時，反應氣體的多少會影響淀積的速率及其均勻性等，因此需要嚴格控制氣體流量，通常採用質量流量計來實現精確控制。

㈥ 壓力控制器怎麼調圖解

家用水泵壓力控制器調法如下：

1、首先應該斷開電源，打開壓力罐底部的排污閥，放水至不流水，擰下壓力控制器，繼續放水，直到水全部放完，然後關閉排污閥，裝上壓力控制器，一定要密封好，不能漏氣，接上電源，就OK了。