❶ 國產電子束蒸發鍍膜機哪個品牌好
我覺得國產電子數的這一個機器的話還是各個品牌都挺不錯的，看自己的選擇吧。
❷ 電子束鍍膜屬於蒸鍍還是濺射
1.蒸發鍍膜和濺射鍍以及離子鍍都是物理氣相沉積（PVD）的工藝方法。
2.蒸發鍍主要包括：版電阻加權熱蒸發、感應加熱蒸發、電子束蒸發、激光加熱蒸發、離子束蒸鍍等。
3.您所說的E型槍鍍膜和直型電子槍鍍膜都是屬於熱蒸發鍍膜的范疇。
4.S槍濺射實際就是錐形磁控濺射靶，陰極靶材為環狀錐形，安裝在水冷座上。環狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場，其平行靶面的磁場分量和垂直於靶面的電場分量形成正交電磁場。電子束被約束在靶面附近運動，電子流密度很大，在靶面附近產生很強的非彈性碰撞，電離幾率很大，形成很強的等離子體。
❸ 我是一名從事真空鍍膜7年的技術員，本人從事電子槍和蒸發，希望能有一份好工資，待遇在7500元左右
朋友，你有七年真空鍍膜懂電子束和蒸發鍍膜，要求七千五，照你要求我幹了十年了，應該拿上萬了，我現在還是失業，不是你說的，這個跟你幹了多久沒有好大關系，要看個人的能力和悟醒，素質、各方面都要講究，有時機遇和運氣也要講究，有的人做了一兩年兩三年就是管理人員和工程師而且就達到了你這個數了，現在工作難找，各行各業都不缺人，缺的是人才，如果你是一個人才的話我相信你這個數不是很難，鍍膜看你是做那一塊鍍膜、首先你為人處事說話做事如何，還有工藝方面如何，膜系設計、膜系的優化、機台的維修，設備的保養等，如果你一個人能解決從鍍膜的開頭到結束一條龍你都能搞的定這個數應該不難，關鍵看你自己，在鍍膜方面如果你只是做一般的操作和設備維護、故障處理、參數設定、這些你多辦只能算是帶有一定技能的工人，如果你要想在鍍膜方面有較深的研究，必須要有好的理論知識在加上好的實踐，你才能在這個方面做出一定的成績。
❹ 電子束蒸發鍍膜價格是多少
呵呵，這個來服務不太常見
一般情源況，電子束蒸發鍍膜的鍍膜機，少則100萬多則4，5百萬，
即使是十年折舊的話，每天的折舊費用也有上百美金，
什麼都不做租給你，估計你也租不起。
只是鍍膜的話，可以外包讓別人做給你，去網上找個小廠試試。
但是作試驗的話，只有靠人際關系了，況且鍍膜哪有那麼順暢，
說做就做出來了，從熟悉機器到最後得到理想特性，沒個10次也得5次。
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死了這條心吧。
❺ 真空蒸發鍍膜，電子束蒸發設備（國外） 廠商 請問各位大俠，常見的國外 電子束蒸發 設備廠商有哪些
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❻ 電子束鍍膜儀 最小能鍍到多少納米
蒸發鍍膜和濺射鍍以及離子鍍都是物理氣相沉積（PVD）的工藝方法。
2.蒸發版鍍主要包權括：電阻加熱蒸發、感應加熱蒸發、電子束蒸發、激光加熱蒸發、離子束蒸鍍等。
3.您所說的E型槍鍍膜和直型電子槍鍍膜都是屬於熱蒸發鍍膜的范疇。
4.S槍濺射實際就是錐形磁控濺射靶，陰極靶材為環狀錐形，安裝在水冷座上。環狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場，其平行靶面的磁場分量和垂直於靶面的電場分量形成正交電磁場。電子束被約束在靶面附近運動，電子流密度很大，在靶面附近產生很強的非彈性碰撞，電離幾率很大，形成很強的等離子體。
❼ 什麼東西可以用到蒸發鍍膜材料
電阻蒸發鍍：電阻蒸發源用於蒸發低熔點材料，如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等。電阻蒸發源一般採用鎢、鉬、鉭製作。
2.電子束蒸發鍍：利用電子束加熱使膜材汽化蒸發後，凝結在基片表面成膜是真空蒸鍍技術中一種重要的加熱方法。這種裝置的種類很多。隨著薄膜技術的廣泛應用，不但對膜的種類要求繁多，而且對膜的質量要求更加嚴格。電阻蒸發鍍已不能滿足蒸鍍某些金屬和非金屬的需要。電子束熱源能獲得遠比電阻熱源更大的能量密度，數值可達到104-109w/cm2，因此可以將膜材加熱至3000-6000c。這就為蒸發難熔金屬和非金屬材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AI2O3等提供了較好的熱源。而且由於被蒸鍍的材料是放在水冷坩堝內，因而可避免容器材料的蒸發及容器材料與膜材之間的反應，這對提高膜的純度是極為重要的。另外，熱量可直接加到膜材表面上，因此熱效率高，熱傳導和熱輻射損失少。
3.高頻感應加熱蒸發鍍：利用感應加熱原理把金屬加熱到蒸發溫度。將裝有膜層材料的坩堝放在螺旋線圈的中央（非接觸），在線圈中通以高頻電流，可以使金屬膜層材料產生電流將自身加熱升溫，直至蒸發。
感應加熱蒸發源的特點：1）蒸發速率大 2）蒸發源溫度均勻穩定，不易產生鋁滴飛濺現象 3）蒸發源一次裝料，無須送絲，溫度控制比較容易，操作簡單 4）對膜材純度要求略寬些。
4.電弧加熱蒸發鍍：與電子束加熱方式相類似的一種加熱方式是電弧放電加熱法。它也具有可以避免電阻加熱材料或坩堝材料的污染，加熱溫度較高的特點，特別適用 於熔點高，同時具有一定導電性的難熔金屬、石墨等的蒸發。同時，這一方法所用的設備比電子束加熱裝置簡單，因而是一種較為廉價的蒸發裝置。
❽ 電子束蒸發鍍膜機可以同時蒸鍍幾個靶材么
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1.蒸發鍍膜和濺射鍍以及離子鍍都是物理氣相沉積（PVD）的工藝方法。
2.蒸發鍍主回要包括：電答阻加熱蒸發、感應加熱蒸發、電子束蒸發、激光加熱蒸發、離子束蒸鍍等。
3.您所說的E型槍鍍膜和直型電子槍鍍膜都是屬於熱蒸發鍍膜的范疇。
4.S槍濺射實際就是錐形磁控濺射靶，陰極靶材為環狀錐形，安裝在水冷座上。環狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場，其平行靶面的磁場分量和垂直於靶面的電場分量形成正交電磁場。電子束被約束在靶面附近運動，電子流密度很大，在靶面附近產生很強的非彈性碰撞，電離幾率很大，形成很強的等離子體。
❾ 請介紹一下：電子束蒸發鍍膜機的結構組成
只能找到這個，希望對你有幫助。
應用領域：
蒸發系列卷繞鍍膜設備主要用於在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面真空蒸鍍金屬膜。產品廣泛用於包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業等領域。本系列設備具有運行平穩、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產周期短、能耗低、操作維護方便、性能穩定等特點
結構特點：
1、卷饒系統採用高精度支流或交流變頻調速，具有運行平穩、速度高、對原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面徵集等特點；
2、張力控制採用進口數字張力控制系統，具有張力、線速度恆定，動作快速的特點；
3、各組送絲由微機電機獨立控制，可總調或單獨調速，並有速度顯示；
4、真空系統配置精良，抽氣速度快，採用PLC控制；
5、配備大功率電源，鍍膜效率高，膜層均勻性好。
ZJR-1400主要技術參數:
1、真空室尺寸: Φ1400mm
2、極限真空(空載、乾燥、潔凈): 上室1×10-1pa;下室7×10-3pa
3、恢復真空時間(空載、乾燥、潔凈): 從大氣抽到6.7×10-1pa≤8min
4、最大可鍍幅寬： 800mm
5、最大卷徑： Φ500mm
6、鍍膜速度： 120～200m/min
7、蒸發材料： Φ1.5mm鋁絲（純度99.95%）
8、可鍍材料： PET、PVC、CPP、BOPP、OPP
9、蒸發器： 9隻BN坩堝（110×24×10）
10、每組蒸發源功率： 12KW
11、送鋁絲速度： ≤3m/min
12、電源： 380M/220、50HZ
13、最大消耗功率： ～135KW
14、耗水量 6T/h(進水溫度≤25℃、水壓0.2-0.3Mpa，循環水)