pecvd仪器压力怎么控制

㈠ 关于光伏太阳能电池部PECVD工序，如何才能有效控制碎片率，注意哪些细节方面

1.注意上下片的手法和真空吸笔的压力，片子轻拿轻放，真空吸笔的压力要大小适中。
2.注意昌返如工艺点的磨损情况，磨损严重的要及时更换。
3.沉积时注意耐启温度不要急世前升急降。
4.沉积完成出舟速度不可过快。

㈡ 压力表怎么调压力

压力开关调压力的流程如下：

1、设置控制压力的方法：

（1）短按(ON/OFF)运行键，关闭运行指示灯，压力控制系统关闭。

（2）设置控制上限/下限，短按SET键1次，进入下限设置状态(对应下限指示灯亮)，通过(▲)(▼)设置数值,设置下限完成后，短按SET键进入上限设置，设置方法同上。

（3）设置完成后，按SET键将设定值自动存入电脑芯片（参数修改后，5秒悉历钟内无按键操作会自动保存当前参数设置）。

（4）再次按(ON/OFF)运行键(对应运行指示灯亮)，电机开始工作。

2、单位切换方法：短按(ON/OFF)运行键，关闭运行指示灯，短按增加键(▲)可以将单位在MPa、Kg/cm、PSI之间任意切换。设置完成后开启运行指示灯。

3、零位清零功能：短按(ON/OFF)运行键，关闭运行指示灯，长按减小键(▼)5秒可以将当前压力值清零,修正零位误差。设置完成后开启运行指示灯。(使用此功能时压力睁迹搜开关不得施加压力。)

(2)pecvd仪器压力怎么控制扩展阅读：

压力开关的原理：

1、采用英制管螺纹快速接头或铜管焊接式安装结构，安装灵活，使用方便，无需特殊的安装固定。

2、插片式导线式连接方可供用户任意选定。

3、密封式不锈钢感应器安全可靠。

4、压力范围内可根据用户任意选定的压力值进行制造。压力开关是与电器开关相结合的装置，当到达预先设定的流体压力时，开关接点动作。主要应用于电厂、石化、冶金行业等工业设备上输出报警或控制信号，在工业领域中有着重要的用途，能预防生产工程中重要装置的损坏，避州激免了重大生产事故地发生。

㈢ 压力控制器怎么调整

一个控制主值，一个控制幅差，上边的控制主值，有控制上限的，也控制下限的，一般情况下控制高压启动低压停止的，控制上限，如伙食冰机，控制低压启动高压停止的控制下限，幅差值由下边的旋钮控制，刻度只能当参考，要以压力表为准，上限值=下限值+幅差。根据这一公关系调节，例如控制4公斤启动，5公斤停止，现将幅差调到最小，然后调节主值定到4公斤，在调节幅差值1公斤，根据压力表反复调节几次就可以了。 这得看你用的是什么样的压力表，以及控制器。
如果是家用的压力开关的话，不能设置高低压，可调节容积仅有0.5公斤。
电接点压力表的，直接在压力表上设置高低压。应先把电接点表的三个接线端子接好，一般红线为高压端子，绿线为低压端子，黄线为公共端。
如果用的远传压力表或是压力传感器，应在控制系统面板上设置高低压。
电接点压力表，在表的中心有个丝扣，用螺丝刀压下去，可以碰触到高压针和低压针，然后设置即可。
注意,如果压力表没有接好的话，即使工作，会产生高压不停机的现象。

㈣ 压力试验机怎么操作

压力试验机操作步骤：1、该仪器需由专人操作。2、在使用前必须检查油箱的油标位置和油管接着是否松动。3、放好试块，转动手轮，调整丝杆高度，可调至试件离上压板1-2mm。4、接通电源，启动电动机。5、关闭回油阀，控制送油阀，当强度等级小C30时，取0.3-0.5Mpa/s的加荷速度，强度等级大于或等于C30时，取0.5-0.8Mpa/s的加荷速度;当试件接近破坏而开始迅速变形时，应停止调整试验机油门，直到试件破坏。6、试件破碎后，打开回油阀，使活塞回落，此时，从指针所指读数即为该试件的破坏荷载，并予以记录。7、清扫试件碎屑，进行下一次试验。8、试验完毕后，按停止键，关闭电机，关闭电源。

天津市美特斯试验机厂是集科研开发、加工制造、经营经销于一体的企业。公司产品压力试验机主要用于混凝土、石材等建材产品及其它材料的抗压强度的试验。本机采用液压加荷、电子测力；具有数字显示试验力及加荷速度，试验力保持等功能。该机还可配置计算机，可进行数字采集、处理，也可直接将试验结果打印和存储。

㈤ PECVD工作原理是什么

1PECVD工艺的基本原理

PECVD技术是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上（即样品放置的托盘）产生辉光放电，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体，这些气体经一系列兆衫化学反应和等离子体反应，最终在样品表面形成固态薄膜。其工艺原理示意图如图1所示。

在反应过程中，反应气体从进气口进入炉腔，逐渐扩散至样品表面，在射频源激发的电场作用下，反应气体分解成电子、离子和活性基团等。这些中圆分解物发生化学反应，生成形成膜的初始成分和副反应物，这些生成物以化学键的形式吸附到样品表面，生成固态膜的晶核，晶核逐渐生长成岛状物，岛状物继续生长成连续的薄膜。在薄膜生长过程中，各种副产物从膜的表面逐渐脱离，在真空泵的作用下从出口排出。

2.2PECVD设备的基本结构

PECVD设备主要由真空和压力控制系统、淀积系统、气体及流量控制、系统安全保护系统、计算机控制等部分组成。其设备结构框图如图2所示。

2.2.1真空和压力控制系统

真空和压力控制系统包括机械泵、分子泵、粗抽阀、前级阀、闸板阀、真空计等。为了减少氮气、氧气以及水蒸气对淀积工艺的影响，真空系统一般采用干泵和分子泵进行抽气，干泵用于抽低真空，与常用的机械油泵相比，可以避免油泵中的油气进入真空室污染基片。在干泵抽到一定压力以下后，打开闸板阀，用分子泵抽高真空。分子泵的特点是抽本体真空能力强，尤其是除水蒸汽的能力非常强。

2.2.2淀积系统

淀积系统由射频电源、水冷系统、基片加热装置等组成。它是PECVD的核心部分。射频电源的作用是使反应气体离子化。水冷系统主要为PECVD系统的机械泵、罗茨泵、干泵、分子泵等提供冷却，当水温超过泵体要求的温度时，它会发出报警信号。冷却水的管路采用塑料管等绝缘材料，不可用金属管。基片加热装置的作用使样品族培腔升温到工艺要求温度，除掉样品上的水蒸气等杂质，以提高薄膜与样品的附着力。

2.2.3气体及流量控制系统

PECVD系统的气源几乎都是由气体钢瓶供气，这些钢瓶被放置在有许多安全保护装置的气柜中，通过气柜上的控制面板、管道输送到PECVD的工艺腔体中。

在淀积时，反应气体的多少会影响淀积的速率及其均匀性等，因此需要严格控制气体流量，通常采用质量流量计来实现精确控制。

㈥ 压力控制器怎么调图解

家用水泵压力控制器调法如下：

1、首先应该断开电源，打开压力罐底部的排污阀，放水至不流水，拧下压力控制器，继续放水，直到水全部放完，然后关闭排污阀，装上压力控制器，一定要密封好，不能漏气，接上电源，就OK了。