asml设备哪个品牌好

❶ 现代的高端光刻机，哪些国家才能制造

荷兰和日本。最大的光刻机制造商是荷兰ASML，这是一家总部设在荷兰埃因霍芬（Eindhoven）的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。

产品服务

ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台积电（TSMC）、中芯国际（SMIC）等。

ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列现已停产；AT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列，为ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而NXT系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。

❷ 阿斯麦公司制造新一代光刻机，这一代光刻机与之前的相比如何

新一代光刻机相比之前的设备肯定各方面都会更先进，关于新一代EUV光刻机的性能参数，阿斯麦公司并未透露太多，阿斯麦公司制造新一代光刻机肯定会在制造的良率、工艺水平等方面都会有很大提升和进步，因为性能和各方面都更优秀，所以价格方面也很惊人，据说这架新一代光刻机售价高达4亿美元，目前这架新一代光刻机还在制造当中，预计会在2025年交付客户开始使用，这对于阿斯麦公司来说是一次重大的突破，同时对制造业也会引起不小的轰动。

这台新一代光刻机的制造对整个行业来说都会带来巨大的冲击，各行各业都在关注此事，不知道这次阿斯麦公司会给我们带来怎样的惊喜，也有人表示虽然这台归光刻机拥有超高的性能，但是价格过于昂贵也难以让人接受。

❸ 国产光刻机哪个品牌好

光刻机品牌主要有：ASML，尼康，佳能，欧泰克，上海微电子装备，SUSS，ABM, Inc.

❹ 2022年荷兰ASML公司卖出62台光刻机，中国买走多少设备

荷兰的ASML是目前全球最顶尖的光刻机提供商，尤其是在高端光刻机领域，几乎占据了全球100%份额。

一、 最近几年，ASML销售业绩增速非常快。

因为在高端光刻机拥有绝对的优势，所以asml的光刻机一直供不应求，最近2年时间虽然受到疫情的影响，但因为全球芯片普遍供不应求，所以ASML的光刻机也供不应求，因此asml的业绩也有了快速的增长。2021财年，ASML营业收入为186.11亿欧元，同比上涨33.14%；归属于母公司普通股股东净利润为58.83亿欧元，同比增长更是高达65.55%；不过进入2022年之后，asml业绩貌似有所下降，从第一季度的财报来看，其营收只有39.6亿美元，同比下降24.57%，利润更是只有7.8亿美元，同比下降51.36%。

没有EUV光刻机做后盾，想要生产7纳米以上的芯片基本上不可能，目前一些中低端光刻机最多只能用于生产14纳米的芯片，就算通过多重曝光之后，最多也只能生产10纳米左右的光刻机。虽然中芯国际通过技术工艺上的改进，实现了N+1、N+2工艺，生产出来的芯跟7纳米比较接近，但跟目前世界上最顶尖的5纳米，甚至3纳米芯片相比，仍然有很大的差距。所以想要解决我国芯片问题，光靠进口光刻机是行不通的，西方国家永远不可能把最先进的设备卖给我们，想要缩小我国芯片制造实力跟世界顶尖水平的差距，还得靠自力更生，打铁还需自身硬。

❺ ASML是什么意思

1、荷兰ASML公司 (全称： Advanced Semiconctor Material Lithography，目前该全称已经不作为公司标识使用，公司的注册标识为ASML Holding N.V)，中文名称为阿斯麦（中国大陆）、艾司摩尔（中国台湾）。

2、光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

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光刻机工作原理

在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。

❻ 世界上能做出高端光刻机的国家有哪些

能制造高端光刻机的只有荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

拓展资料：

光刻机种类

一、接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。

1、软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；

2、硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；

3、真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）

二、接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。

三、投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。

光刻机——网络

❼ 世界上最好的光刻机来自荷兰，为什么不是芯片发达的美国

世界上最顶端的光刻机来自荷兰阿斯麦的极紫外光光刻设备，差不多1.2亿美元一台，还垄断着世界高端光刻机市场，像现在最先进制程的7纳米，有的国家有钱也是买不到的。

那么为什么这种世界高科技光刻机公司不在美国，而在荷兰呢？首先最重要的这种技术并不是美国搞不出来。

四，是美国掌握着世界芯片最顶端的芯片设计技术，光刻机是为芯片服务，如果美国停止设计高端芯片，那么荷兰的高端光刻机毫无用处，产量也是被美国控制着，不过这种优势美国越来越掌握不住了。

总的来说世界最高端的光刻机虽然在荷兰，但是被美国控制着。

❽ 一家中企买下三台光刻机，它是哪家呢

华为在5G取得绝对领先地位后，美国开始经常制造麻烦，在此过程中，华为首当其冲，成为美国打击的焦点。特别是2020年，美国对华为在芯片方面展开全方位封锁。此外，我国在半导体领域起步晚，再加上处处面临技术垄断，华为陷入了前所未有的芯片危机。这不是华为一家的危机，而是整个中国科技市场的危机。因此，2020年，我国所有半导体企业全力突破半导体技术，突破美国壁垒，努力尽快实现自主性。

其中，去年12月，南大光电在ArF取得突破性进展，成功通过了客户使用认证阶段。据悉，该光刻将用于最高7纳米芯片生产，这毋庸置疑，我国在芯片生产技术的突破上再次取得重大进展。同月，上海申阳也在ArF干法光刻及KrF厚膜光刻研究中取得成功，2022年将成功实现KrF厚膜光刻的量产，一年后将顺利实现ArF干法光刻的量产。这种自然和成功购买的三个ASML光刻机器的使用是不可分割的。

光刻胶生产技术的成功突破将使美国在芯片生产上对我国产生更少的壁垒，我国也将在此基础上进一步加快芯片研发进程。当然，有些人可能会说，我们国家芯片生产研发取得了这样的成果，但还需要使用外国吗？事实是事实，但我们需要明确的一点是，芯片的生产、研究和开发不是一蹴而就的，而是目前科学技术的代表性产品之一，强调循序渐进。约翰肯尼迪，Northern Exposure(美国电视)，我们可以加快速度，但这并不意味着我们必须跳过其中的一个阶段，跳跃。只有脚踏实地，才能实现真正的突破。世界未来的芯片市场也必将因中国的成功加入而发生翻天覆地的变化。